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KT, 기지국 6만개 개통...“1등 5G 커버리지 우위 유지”

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Sunday, September 01, 2019, 09:09:39

8월 29일 기준 전국 5G 기지국 6만개 개통 완료.. 85개시 동 단위까지 서비스 제공
통신 3사 중 가장 빠른 구축 속도, 상용화 초기부터 1등 5G 커버리지 우위 유지

 

인더뉴스 권지영 기자ㅣKT(회장 황창규)가 8월 29일자로 전국에 5G 기지국 6만개 개통을 완료하고 85개시 동 지역까지 5G 서비스를 제공한다고 1일 밝혔다.

 

KT는 올해 초 5G 상용서비스를 시작하면서 광인프라 고도화를 통해 통신 3사 중 가장 빠른 속도로 5G 네트워크를 구축했으며, 현재까지 ‘1등 5G 커버리지’ 우위를 유지하고 있다.

 

KT는 이번 기지국 6만개 개통으로 9월부터 전국 85개시 동 단위까지 5G 서비스를 제공한다. KT는 올해 말까지 전체 인구의 80%를 커버하는 5G 커버리지를 확보한다는 계획이다.

 

또한, 6월부터 시작한 인빌딩 커버리지 구축을 본격화했다. 하반기 내 주요 역사, 대형 쇼핑몰, 호텔, 리조트 등 1000개 이상 건물에 인빌딩 서비스 제공을 목표로 커버리지를 지속 확대해나가고 있다.

 

아울러 KT는 수도권과 광역시 등 일부 지역에 5G 커버리지가 집중되지 않고, 보다 많은 고객들이 5G 서비스를 누릴 수 있도록 3단계 계획에 따라 전국 커버리지를 확대해나가고 있다.

 

KT는 “1단계로 전국 85개시 동 지역을 대상으로 전국 5G 커버리지를 고르게 넓혀가고 있다“며 “2단계로는 고객들이 밀집하는 주요 테마별 장소와 계절별로 고객들이 모이는 장소를 고려해 커버리지를 추가 구축하고 있다”고 말했다.

 

전국 고속도로와 KTX/SRT 철도, 전국 대학교, 놀이동산 등에 5G 구축을 완료했다. 여름 휴가철을 앞두고 해수욕장·워터파크 등 전국 주요 휴가지에 5G 서비스를 제공한 데 이어 다가오는 가을철을 맞아 전국 주요 단풍 여행지, 겨울철 대비 스키장·썰매장에도 5G 커버리지를 확대해 나갈 계획이다.

 

특히 3단계로는 KT가 자체 개발해 운용중인 빅데이터 기반의 무선 품질 분석 시스템 ‘WiNG(Wireless Network Guard)’과 ‘5G 무선 품질 측정 차량’을 활용해 전국 무선 품질을 분석한다. 지역별 특화된 5G 네트워크 설계 전략에 따라 고객 체감 커버리지를 극대화한다는 방침이다.

 

한편, KT는 지난 4월 5G 상용서비스 시작과 함께 통신 3사 중 가장 먼저 ‘커버리지맵’을 공개한 데 이어 전주 신규 개통된 5G 기지국 위치를 지도 위에 핀(Pin) 이미지로 표시해 고객에게 보다 정확한 커버리지 현황을 알려주는 ‘5G 커버리지 맵 3.0 (https://coverage.kt.com)’을 제공하고 있다.

 

현재 5G 네트워크 구축 완료 지역 뿐 아니라 실제 서비스 중인 기지국 수를 일 단위로 업데이트해 공개하는 통신사는 KT가 유일하다.

 

KT 네트워크부문 액세스망구축담당 최진호 상무는 “KT는 5G 상용서비스 시작 이후 1등 커버리지와 함께 고객이 체감할 수 있는 품질향상 노력을 지속해 왔다”며 “앞으로도 고객 기대를 뛰어넘는 KT 5G 서비스를 제공하기 위해 서비스 경쟁력을 강화할 것”이라고 말했다.

 

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권지영 기자 eileenkwon@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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