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한미약품, 항암신약 ‘포지오티닙’...“임상 1차 평가변수 미충족”

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Friday, December 27, 2019, 11:12:46

유전자변이 폐암환자 115명 대상..ORR 14.8%로 목표인 17% 미충족
스펙트럼社 “치료 효과는 확인..데이터 분석해 남은 6개 임상 집중할 것”

 

인더뉴스 김진희 기자ㅣ한미약품의 파트너사 스펙트럼이 진행한 항암신약 ‘포지오티닙’ 임상에서 계획한 종양감소 목표치가 달성되지 못한 것으로 나타났습니다.

 

다만, 회사 측은 이번 임상 외에도 현재 6개 환자군에 대한 임상이 함께 진행중인 만큼, 나머지 임상에 집중하겠다는 계획입니다.

 

27일 한미약품은 파트너사인 스펙트럼이 진행한 포지오티닙의 첫번째 환자군 코호트1(Exon20 삽입 변이 비소세포폐암) 임상에서 객관적 반응율(ORR; Overall Response Rate)이 14.8%를 기록하며, 1차 평가변수 목표였던 17%를 충족하지 못했다고 밝혔습니다.

 

객관적 반응율은 일정기간 내 종양 감소를 보인 환자 비율을 뜻합니다. 다시말해 당초 기대됐던 만큼의 효과, 즉 통계적 결과를 달성하지 못한 셈입니다.

 

해당 임상은 115명의 Exon20 비소세포폐암 환자를 대상으로 진행됐으며, 부분 반응(PR) 17명(14.8%), 반응지속기간 7.4개월 등의 데이터가 확인됐습니다. 또 환자의 68.7%(79명)에서 질병조절율(DCR)이 나타나, 기대치 만큼은 아니지만 여전히 다수의 환자들에게서 치료 반응이 있었다는 평이니다.

 

스펙트럼은 1차 평가변수 목표에는 도달하지 못했으나 일부 긍정적인 결과를 확인한 만큼, 이번 코호트 임상에 대한 세부 데이터를 면밀히 분석해 현재 진행중인 나머지 6개 코호트 임상에 집중해 나간다는 방침입니다.

 

조 터전(Joe Turgeon) 스펙트럼 사장은 “2020년 공개될 코호트2와 코호트3의 결과를 기대하고 있으며, 2020년 1분기 내 전반적인 프로그램 전략 업데이트를 제공할 예정”이라고 설명했습니다.

 

프랑수아 레벨(Francois Lebel) CMO(최고의학책임자)는 “첫번째 코호트에서 다른 평가변수들을 통해 명백한 포지오티닙의 활성도를 확인했다”며 “현재 전반적인 분석 검토를 진행하고 있고, 향후 학회를 통해 이 내용들을 발표할 계획”이라고 말했습니다.

 

한편, 포지오티닙은 총 7개의 코호트로 구성돼 있으며, 코호트1-4는 각각의 다른 통계학적 가설로 사전 명시된 ORR을 1차 평가변수로 두고 있습니다.

 

코호트5-7은 연구 목적의 시험들로 임상 프로토콜 계획대로 진행 중입니다. 코호트2-3은 임상 지속 진행을 위한 무용성평가(Futility Analysis)를 최근 통과했으며, 2020년 내 임상 결과가 발표될 예정입니다.

 

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김진희 기자 today@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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