검색창 열기 인더뉴스 부·울·경

ICT 정보통신

SKT-한국산기대, 안산 시화공단 우수 중소기업 스마트공장화 지원

URL복사

Friday, May 22, 2020, 16:05:15

SKT ‘메타트론 그랜드뷰’ 솔루션 제공..산기대 측에서 솔루션 교육공간 운영

인더뉴스 이진솔 기자ㅣSK텔레콤이 한국산업기술대학교(이하 산기대)와 손잡고 안산 시화공장에 있는 4000여 중소기업에 자사 스마트 공장 솔루션을 지원합니다. 일정 기간 동안 솔루션을 무료로 제공할 예정이며 일부 기업에는 스마트 공장 구축에 필요한 장비를 지원합니다.

 

SK텔레콤은 산업통상자원부 산하 산기대와 ‘안산 시화공단 우수 중소기업 스마트 공장화 지원 사업’을 위한 업무협약을 체결했다고 22일 밝혔습니다. 이에 따라 안산 시화공단 내 4000여 중소기업에 스마트공장 구축 관련 교육, 비용, 후속 연구 등을 지원한다는 계획입니다.

 

SK텔레콤은 “안산 시화공단에는 국내 제조기업 중 25%를 차지하는 1만 개가 넘는 제조기업이 있다”며 “안산 시화공단을 스마트팩토리 클러스터로 집중 육성한다면 국내 제조업 생산성이 높아지고 혁신 확산 속도도 빨라질 것으로 기대한다”고 말했습니다.

 

 

협약에 따라 SK텔레콤은 자체 개발한 5세대(5G) 기반 제조 기업 맞춤형 빅데이터 분석 솔루션 ‘메타트론 그랜드뷰’를 제공하고 산기대는 이를 활용하는 교육 공간을 학내에 구축해 운영합니다. SK텔레콤은 메타트론 그랜드뷰를 6개월 동안 무료로 제공하고 별도 100개 기업에는 사물인터넷(IoT) 장비와 설치 비용을 지원할 계획입니다.

 

메타트론 그랜드뷰는 공장 주요 설비에 부착한 센서로 회전수, 진동 및 전류 등에 관한 데이터를 분석해 설비 상태와 유지보수 시점을 예측하는 기능이 있습니다. 회사 측은 “해당 솔루션을 도입하면 제조 생산성이 높아져 평균 15% 비용 절감 효과를 거둘 수 있다”고 설명합니다. 또 “주요 설비 및 부품 수명도 20% 이상 늘어난다”고 말했습니다.

 

이번 사업으로 수집한 데이터는 머신러닝으로 분석해 솔루션 고도화에 활용합니다. 참여 기업이 필요로 하는 추가 솔루션 개발도 진행할 계획입니다.

 

최낙훈 SK텔레콤 인더스트리얼데이터사업유닛장은 “이번 협력은 신종 코로나바이러스 감염증 확산으로 어려움을 겪는 중소 제조 기업에 활력을 불어넣고 국내 제조 산업 경쟁력을 높일 수 있다는 점에서 의미가 있다”고 말했습니다.

 

류옥현 산기대 4차산업혁명혁신선도대학사업단장은 “이번 산학협력모델이 스마트공장 인재양성과 교육환경 다각화 측면에 기여할 것”이라고 했습니다.

 

English(中文·日本語) news is the result of applying Google Translate. <iN THE NEWS> is not responsible for the content of English(中文·日本語) news.

배너

이진솔 기자 jinsol@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


배너


배너