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삼성전자 “기자 출입증 이용해 국회 출입, 진심으로 사과”

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Thursday, October 08, 2020, 18:10:09

류호정 의원 “삼성전자 간부, 출입기자로 국회 방문”..삼성전자, 즉각 사과

 

인더뉴스 권지영 기자ㅣ삼성전자 임원이 기자 출입증을 이용해 국회에 출입한 것에 대해 사과했습니다.

 

삼성전자는 8일 “부적절한 방법으로 국회를 출입한 것에 대해 다시 한 번 진심으로 사과드린다”며 “해당 임원은 물의를 빚은데 대해 책임을 지고 사의를 표명했다”고 말했습니다. 삼성전자는 사직서를 즉각 수리했습니다.

 

앞서 류호정 정의당 의원은 지난 7일 산업통상자원부 국정감사에서 “삼성전자 간부가 출입기자로 국회를 방문하고 있다”며 “평일과 추석연휴에도 의원실을 오고갔다”고 말했습니다.

 

해당 임원은 새누리당(현 국민의 힘) 당직자 출신으로 삼성전자 부사장을 지낸 것으로 전해졌습니다. 국회 측은 “사실관계를 파악한 후 적정한 조치를 취할 계획”이라는 입장을 전했습니다.

 

삼성전자도 내부에서 국회 절차의 위반 사례가 있는지 조사 중입니다. 삼성전자는 “잘못된 점이 있으면 바로잡겠다”며 “다시 불미스러운 일이 일어나지 않도록 필요한 조치를 다하겠다”고 말했습니다.

 

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권지영 기자 eileenkwon@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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