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SKT, 언택트 ‘티움(T.um) 모바일’ 통해 유튜버 되는 꿈 키운다

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Monday, October 12, 2020, 10:10:41

12일부터 전북 무주 괴목초등학교 재학생 대상 원격 영상 콘텐츠 교육 시행

 

인더뉴스 권지영 기자ㅣSK텔레콤이 티움 모바일을 통해 유튜버 지원에 나섭니다.

 

12일 SK텔레콤(대표이사 사장 박정호)에 따르면 자사의 이동형 ICT 체험관 ‘티움(T.um) 모바일’ 언택트 버전 ‘촬영 ON 스튜디오’를 활용해 전라북도 무주군 괴목초등학교 재학생을 대상으로 원격 영상 콘텐츠 교육을 진행합니다.

 

SKT는 “최근 많은 학생들이 장래희망으로 유튜버를 꿈꾸는 등 영상 콘텐츠 제작에 높은 관심을 보이는 것을 고려해 학생들에게 영상 제작 교육과 체험을 제공하는 ‘티움 모바일’ 언택트 버전 ‘촬영 ON 스튜디오’를 준비했다”고 말했습니다.

 

이번 ‘촬영 ON 스튜디오’는 교육 수강과 영상 촬영용 스마트폰과 마이크, 조명, 짐벌 등 촬영 장비, 영상 제작 교재 등으로 구성된 영상 제작 교육 패키지로 학교로 전달됩니다.

 

교육에 참여하는 학생은 ‘촬영 ON 스튜디오’와 SKT가 자체 개발한 5G 기반 그룹영상통화 서비스 ‘미더스(MeetUs)’를 활용, 1주일간 영상 콘텐츠 기획, 촬영 및 편집 교육을 받습니다. 또한 참여 학생은 교육 이수 후 직접 영상을 제작해 온라인에서 진행되는 자체 공모전에도 참여할 수 있습니다.

 

SKT는 이번 교육을 시작으로 연말까지 총 7개 지역을 대상으로 원격 영상 콘텐츠 교육을 제공할 계획입니다.

 

이번 교육은 과학기술정보통신부, 한국정보화진흥원 등이 추진하는 ‘전 국민 디지털 역량강화 교육’의 일환으로, SKT는 한국생산성본부와 함께 교육 사업자로 선정됐습니다.

 

또 ‘전 국민 디지털 역량강화 교육’은 코로나19 시대에 정보 소외 계층의 디지털 정보 격차를 해소하고 관련 일자리를 창출하기 위해 올해 처음 추진되는 한국판 뉴딜 사업으로 내년 1월까지 진행됩니다.

 

SKT는 이번 사업을 통해 인공지능 스피커 ‘누구(NUGU)’를 활용한 어르신 돌봄 교육, 장애 청소년 대상 코딩 교육 등 사회 취약 계층 대상 디지털 정보 격차 해소를 위한 다양한 활동을 시행할 예정입니다.

 

한국생산성본부는 생활에 필요한 스마트기기, 비대면 화상솔루션 활용 교육 등을 진행합니다.

 

이번 디지털 역량강화 교육은 국민 누구나 디지털배움터 홈페이지나 전화를 통해 신청할 수 있습니다.

 

송광현 SK텔레콤 PR2실장은 “코로나19로 인해 그 어느 때보다 ICT 활용 역량이 필요한 상황에서, 책임감과 사명감을 갖고 전 국민의 정보 격차 해소를 위해 최선을 다하겠다”고 말했습니다.

 

English(中文·日本語) news is the result of applying Google Translate. <iN THE NEWS> is not responsible for the content of English(中文·日本語) news.

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권지영 기자 eileenkwon@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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