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스토리위즈 “KT그룹 콘텐츠 IP 전초기지 될 것”...100억원 투자

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Tuesday, October 13, 2020, 10:10:35

헐리우드식 ‘집단 창작 시스템’ 100억원 투입
KT 인프라 적극 활용..해외 ‘현지화’ 전략 추진

 

인더뉴스 이진솔 기자 | KT그룹에서 웹소설 사업을 이끄는 스토리위즈가 웹소설 기반 원천 지식재산권(IP) 확보를 통해 성장하겠다는 비전을 내놨습니다.

 

13일 서울 종로구 센터포인트광화문에서 열린 사업전략 설명회에서 전대진 스토리위즈 대표는 “콘텐츠 시장에서 자본 경쟁은 치열해질 것”이라며 “KT그룹이 가진 인프라를 활용하고 해외 현지화 전략을 통해 콘텐츠 산업 발전에 기여하겠다”고 말했습니다.

 

스토리위즈는 지난 2월 KT 웹소설 사업 분야가 분사해 설립한 웹소설·웹툰 기반 콘텐츠 전문 기업인데요. 웹소설 작가 발굴을 통한 원천IP 확보부터 웹툰, 드라마, 영화 등 OSMU(원 소스 멀티 유즈) 콘텐츠 제작·유통까지 전담합니다.

 

KT그룹에서는 스토리위즈를 독점 콘텐츠 공급기지로 성장시킨다는 전략입니다.

 

◇ ‘집단 창작 시스템’ 100억원 투입

 

스토리위즈는 원천IP 확보를 위해 할리우드식 집단 창작 시스템을 웹소설 분야에 도입한다고 발표했습니다. 작가 1명이 기획부터 집필까지 모두 담당하는 기존 방식에서 나아가 데이터 분석, 기획, 집필, 교정 등을 세분화하겠다는 겁니다.

 

100억원 규모 1차 투자 계획도 내놨습니다. 기획부터 제작까지 담당하는 창작 스튜디오를 중심으로 투자 및 유통 지원, 육성, OSMU까지 이어지는 제작 시스템을 구축하는 데 투입됩니다.

 

◇ KT 인프라를 활용 원천IP 발굴

 

스토리위즈는 현재 운영 중인 웹소설 연재 플랫폼 ‘블라이스’에 도입한 작가 연재 기능을 강화할 계획입니다. 창작지원금 제도를 개편하고 특화 공모전, 피드백 시스템을 도입합니다. 창작 스튜디오와 연계해 맞춤 코칭을 진행하는 등 신인 작가 육성에도 힘쓸 계획입니다.

 

KT그룹이 가진 인프라도 적극적으로 활용합니다. 공동투자를 집행하거나 경영 컨설팅, 유통 대행, 육성프로그램, 글로벌 진출 등을 지원합니다.

 

◇ 아시아 시장 중심 현지화 전략

 

국내 유통강화와 함께 일본과 중국 시장을 중심으로 해외 유통망을 강화합니다. 스토리위즈는 출판만화 등 콘텐츠 사업 인프라가 잘 갖춰져 있고 최근 웹툰 시장이 성장하고 있는 일본 시장을 공략한다는 방침입니다. 특히 시장이 활성화된 지역에서는 ‘현지화’ 전략을 추진합니다.

 

스토리위즈는 일본 현지 인력을 채용해 콘텐츠 유통·제작 업무를 진행하고 있다고 밝혔습니다. 향후에는 일본에 창작 스튜디오 설립하고 전문 장르포털을 구축하는 등으로 시장을 개척할 예정입니다. 이밖에 미국, 프랑스, 태국 등에서도 유통사업을 진행하고 있으며 영역을 지속 확대할 계획입니다.

 

전대진 대표는 “웹소설·웹툰 시장 성장과 더불어 콘텐츠 전문 기업으로서 KT그룹의 미디어·콘텐츠 산업을 어떻게 리딩할 것인지, 콘텐츠 생태계에 어떻게 기여할 것인지에 대한 고민이 깊어지고 있다”며 “KT그룹이 갖춘 역량에 스토리위즈의 창의성을 더해 KT그룹 기업 가치 제고에 노력하겠다”고 말했습니다.

 

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이진솔 기자 jinsol@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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