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우리은행, 부정입사자 채용 취소한다...“법률검토 착수”

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Friday, October 16, 2020, 09:10:11

채용비리 판결 후 재직 중인 19명 대상

 

인더뉴스 유은실 기자ㅣ우리은행은 채용비리 부정입사자들의 채용 취소와 관련해 법률적 검토 절차에 착수했습니다. 법률적 검토 대상은 채용비리 판결이 났지만 아직 재직 중인 19명입니다.

 

지난 13일 국회에서 열린 금융감독원 국정감사에서는 은행권 채용비리 부정입사자에 대한 채용취소와 관련된 질의가 이어졌습니다. 이날 국정감사에서 배진교 정의당 의원과 민병덕 더불어민주당 의원은 부정입사자들이 계속 근무 중인 점을 지적하며 이들에 대한 채용취소가 이뤄져야 한다고 강조했습니다.

 

이와 관련해 증인으로 출석한 강성모 우리은행 상무는 “채용 비리로 현재 재직 중인 직원에 대해 법률적 판단 아래 종합적으로 검토하겠다”고 말했습니다.

 

우리은행 관계자는 “현재 부정입사자에 대해 채용 취소가 가능한지 법률 검토에 착수했고 법률검토 결과 등을 고려해 채용 취소 여부를 결정할 예정”이라며 “앞으로 다시는 이런 일이 재발하지 않도록 공정한 채용을 위해 최선을 다할 것”이라고 말했습니다.

 

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유은실 기자 yes24@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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