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스타벅스, 독립유공자 우수 대학생에 장학금 1억원 전달

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Monday, August 13, 2018, 14:08:22

지난 2015년부터 장학금 지원 시작..사랑의열매·임직원 모금액에 본사 매칭해 기금 마련

인더뉴스 권지영 기자ㅣ 스타벅스코리아가 장학금 1억원을 쏜다. 

 

13일 (주)스타벅스커피 코리아(대표이사 이석구)에 따르면 광복 73주년을 기념해 독립유공자 우수 대학생 50명에 총 1억원의 장학금을 전달했다. 

 

장학금은 전국 스타벅스 매장 1190여곳에 비치된 '사랑의 열매' 모금함에 모인 고객의 정성과 스타벅스 임직원 바자회 모금액(5000만원)을 더했다. 여기에 스타벅스가 회사 기부금을 매칭해 총 1억원 규모의 기금을 마련했다. 

 

순국선열에 감사하는 스타벅스와 고객, 파트너(임직원)의 마음이 한 데 모인 것. 사회복지공동모금회(회장 예종석)와 함께 광복회(회장 박유철)가 추천하는 50명의 대학생에 각 200만원씩 지원됐다. 

 

스타벅스코리아는 장학금 전달식에 참석한 대학생들과 광복의 뜻을 기리는 기회를 마련했다. 스타벅스가 복원과 보존을 후원해 지난 5월 재개관한 주미대한제국공사관의 모습이 담긴 '주미대한제국공사관 낙화 텀블러'에 커피를 나눠 마시기도 했다. 

 

특히 참석한 대학생을 대표해 독립운동가 채재오 선생의 외증손자 오승용 학생이 소감과 함께 감사의 뜻을 전했다.

 

한편, 스타벅스는 지난 2015년부터 애국지사의 정신을 본받아 독립유공자 자손 우수 대학생에게 장학금을 전달하고 있다. 2015년 광복 70주년을 앞두고, 스타벅스는 개점 16주년을 기념해 광복회가 추천하는 대학생 16명에 3200만원을 지원했고, 2016년엔 17명에 3400만원을 전달했다. 

 

이석구 스타벅스 대표이사는 “대학생 여러분이 독립운동의 숭고한 정신을 본받아 우수한 인재로 성장하기를 진심으로 응원한다“며 “뜻깊은 기부에 동참해주신 고객과 파트너에게 감사하며, 앞으로도 독립의 뜻을 되새길 수 있는 다양한 활동을 펼치겠다”고 말했다.

 

박흥철 사회복지공동모금회 본부장은 “모금에 동참해주신 분들과 스타벅스 임직원 여러분의 뜻이 모여 한 마음으로 학생들을 앞날을 응원하고 있다“며 “우리의 역사를 돌아보고 다음 세대를 지원하는 스타벅스의 나눔은 기업 사회공헌의 귀감”이라고 전했다. 

 

방병건 광복회 의전복지국장은 “기부에 동참해주신 모든 분들의 지속적인 관심과 지원에 감사 드린다”며 ”지원을 받은 학생들 역시 독립유공자의 후손으로서 자부심을 갖고 더욱 성장하길 바란다”며 학생들에게 응원의 뜻을 전했다. 

 

한편, 스타벅스는 지난 2011년 사회복지공동모금회와 첫 인연을 맺고 전국 스타벅스 매장에 사랑의 열매 모금함을 비치해 나눔 문화 확산에 동참하고 있다. 올해까지 대학생 195명과 대학 봉사동아리 8개 단체에 총 4억원이 넘는 청년 지원 장학금을 전달한 바 있다.

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권지영 기자 eileenkwon@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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