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삼성전자, ASML과 차세대 12인치 포토 마스크 공동 개발한다

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Tuesday, September 08, 2026, 15:09:46

기존 반도체 공정의 6인치 마스크 전환을 위한 공동 연구
2028년 업계 최초로 차세대 D램 제조에 High NA EUV 도입

 

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자가 네덜란드 반도체 노광설비 기업 ASML과 손잡고 차세대 반도체 제조 설비 구축에 나섭니다.

 

삼성전자[005930]는 ASML이 주도하는 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 차세대 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나선다고 8일 밝혔습니다.

 

'대형 마스크 컨소시엄'은 현재 반도체 노광설비에 사용되는 6인치를 12인치로 전환하기 위한 협의체입니다. 노광설비와 포토 마스크 관련 글로벌 기술 동향을 함께 모니터링하고 12인치 포토 마스크 개발을 목표로 공동 연구, 표준 개발 등의 협력 활동을 펼칠 계획입니다.

 

포토 마스크는 미세 회로 패턴을 정교하게 새긴 정밀 '마스크(틀)'입니다. 노광설비 내에서 빛을 통해 웨이퍼에 설계된 패턴을 새기는 필수 도구이며 회로를 새기는 정밀도가 반도체 성능과 수율을 결정짓습니다.

 

반도체 노광 공정에는 6인치 마스크가 사용되어 왔으나 High NA EUV(극자외선) 도입과 함께 12인치 마스크로 전환할 경우 나누어 새기고 이를 연결하는 작업 제약을 해소할 수 있어 팹 생산성을 높이고 칩 제조 비용을 낮출 수 있습니다.

 

특히, 설계 단계에서 수백억개의 트랜지스터를 정밀하게 배치하는 첨단 반도체의 경우 12인치 마스크를 통해 High NA EUV 설비의 이점을 온전히 활용할 수 있어 경제적인 생산이 가능해집니다.

 

삼성전자는 ASML과 2028년까지 첨단 D램 제조에 차세대 노광 설비 High NA EUV 도입을 위한 협력도 강화할 계획입니다.

 

이번 양사의 협력은 High NA 기술이 첨단 메모리 제조에도 적용될 준비가 되었다는 것을 의미한다고 삼성전자는 강조했습니다.

 

양사는 그동안 쌓아온 성공적인 협력 성과를 바탕으로 첨단 AI 반도체 제조에 요구되는 성능과 효율을 한 단계 끌어올릴 기술 개발과 도입을 앞당긴다는 계획입니다.

 

전영현 삼성전자 대표이사 부회장은 "AI시대의 도래는 반도체 산업  패러다임을 바꾸고 있으며 밸류체인 전반에서 기술 혁신의 중요성을 더욱 높이고 있다"라며 "삼성전자는 혁신 기술과 강한 파트너십을 바탕으로 파운드리와 메모리를 포함한 첨단 반도체 제조 리더십을 이어가고 ASML과의 협력을 한층 강화함으로써 'Next AI'를 위한 기술 기반을 마련해 나갈 것"이라고 말했습니다.

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이종현 기자 flopig2001@inthenews.co.kr






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