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초소형 전기차 트위지, 르노삼성 부산공장서 생산된다

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Wednesday, October 02, 2019, 09:10:55

공장 내 전용설비서 동신모텍이 생산..연간 5000대 만들어 지역경제 활성화 기여
국내 판매 및 수출 확대 기대..“르노삼성·협력사·지자체 힘 모은 동반성장 사례”

 

인더뉴스 박경보 기자ㅣ최근 내수 시장 3위로 뛰어오른 르노삼성자동차가 초소형 전기차 ‘트위지’를 국내 생산하게 됐다. 부산공장에서 연간 5000대가 생산될 트위지는 르노삼성의 실적 개선은 물론, 침체된 지역경제에도 도움이 될 전망이다.

 

르노삼성은 1일 부산공장에서 트위지의 국내 생산 담당 업체 동신모텍과 함께 ‘트위지 생산 기념식’을 열었다고 이날 밝혔다. 이 행사에는 도미닉 시뇨라 르노삼성차 사장, 임춘우 동신모텍 대표이사, 유재수 부산시 경제부시장, 환경부 및 산업부 관계자, 이갑준 부산상공회의소 부회장 등 부산지역 경제단체 관계자, 시민단체 대표 등이 참석했다.

 

트위지는 2011년 첫 출시된 이후 유럽을 중심으로 글로벌 시장에서 3만대 이상 판매된 모델이다. 국내에서는 2016년 출시돼 올 9월까지 3400대 이상 판매고를 올리며 초소형 전기차 시대의 포문을 열었다.

 

그동안 스페인 바야돌리드 르노 공장에서 생산돼 완제품으로 수입해 오던 트위지는 10월부터는 내수와 전 세계 수출 물량을 모두 부산공장에서 동신모텍이 생산을 담당한다. 르노삼성은 생산 부지와 함께 생산 기술 지원 및 부품 공급을 담당하고, 부산시는 설비투자와 판매확대를 위한 행정·재정적 지원을 담당한다.

 

 

동신모텍은 부산 소재의 차체부품 제조업체로 연간 트위지 생산능력은 내수 및 수출 물량을 포함해 약 5000 수준이다. 트위지 수출 물량은 현재 유럽 시장을 중심으로 계획돼 있으나, 향후 다른 지역까지 확대해 나갈 예정이다. 연간 생산물량 또한 향후 판매 증가세에 따라 늘어 날 수 있다.

 

앞서 르노삼성은 지난해 12월 트위지의 국내 생산을 위해 부산시 및 동신모텍과 업무협약을 체결했다. 이후 생산라인의 현지화, 부품공급 및 기술 지원 방법 등을 함께 준비해 온 것으로 알려졌다.

 

이날 도미닉 시뇨라 르노삼성차 사장은 “트위지 부산 생산은 제조업체, 협력업체, 부산시가 함께 만들어 낸 동반성장의 좋은 예”라며 “이번 일을 계기로 부산시가 친환경 자동차 생산 거점으로 자리잡는 계기가 되길 바란다”고 말했다.

 

한편, 르노 트위지는 친환경차 열풍에 힘입어 지난해 국내에서 1500대 가량 판매됐다. 트위지는 컴팩트한 차체로 복잡한 도심에서의 출퇴근이나 배달, 경비, 시설 관리용으로 매우 유용하며, 에어백 및 4점식 안전벨트 등 안전기능도 갖췄다. 가정용 220볼트 전기로 약 3시간 30분이면 완전 충전이 가능하고, 1회 충전 시 주행가능거리는 주행 환경에 따라 55~80km다.

 

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박경보 기자 kyung2332@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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