검색창 열기 인더뉴스 부·울·경

Bio 바이오

JW중외제약, 코로나19 치료제 본격 개발…표적항암제 특허 출원

URL복사

Wednesday, June 17, 2020, 13:06:51

세포 실험서 렘데시비르 比 4배 효과

 

인더뉴스 남궁경 기자ㅣJW중외제약이 혁신신약 후보물질 CWP291을 코로나19 항바이러스 치료제로 개발합니다.

 

17일 JW중외제약은 Wnt 표적항암제 CWP291을 ‘코로나바이러스 감염증-19 치료용 조성물’로 특허 출원했습니다.

 

CWP291은 암세포의 성장과 암 줄기세포에 관여하는 신호전달 물질인 Wnt/β-catenin 기전을 억제하는 표적항암제로 급성골수성백혈병, 다발골수종, 위암 등 다양한 암종을 대상으로 개발하고 있는 혁신신약(First-in-Class) 후보물질입니다.

 

JW중외제약은 CWP291 기존 표적항암제 임상연구에서 확인된 종양의 저항성 발현에 주요 역할을 하는 GRP78의 저해효과를 바탕으로, 코로나19 치료제로서의 임상 가능성을 검토했습니다.

 

지난 3월 국제학술지 감염저널에 등재된 ‘코로나19 스파이크 단백질과 숙주의 수용체 GRP78 결합 부위 예측’이라는 제목의 논문에 따르면 GRP78이 코로나19의 잠재적인 스파이크 결합 부위로 예측됐는데요. 코로나19 스파이크 단백질과 GRP78의 상호작용을 저해시키면 바이러스 진입과 복제를 억제할 수 있을 것으로 보고 있습니다.

 

최근 진행된 CWP291의 세포실험에서 대조약물 보다 코로나19 항바이러스 효과가 있는 것으로 분석됐습니다. 연구결과 CWP291이 최근 코로나19 치료제로 승인된 ‘렘데시비르(에볼라치료제)’를 비롯해 ‘하이드록시클로로퀸(말라리아 치료제)’, ‘로피나비르(에이즈 치료제)’ 등에 비해 약 4배 높은 항바이러스 활성을 보였습니다.

 

JW중외제약은 CWP291의 코로나19 항바이러스 효과뿐만 아니라 약물동태(체내 약물농도 변화)와 안전역을 종합적으로 고려해 이번 개발을 결정했습니다.

 

앞으로 추가 동물 모델 시험에 돌입하는 동시에 임상시험 착수를 위한 국내외 임상기관과의 협의를 진행할 방침입니다.

 

JW중외제약 관계자는 “그동안 독성 문제로 여러 항암제의 약물 재창출이 실현되지 못했지만, CWP291은 한국과 미국에서 안전성이 검증된 임상 1상의 약물 용량보다 낮은 농도로 코로나19 항바이러스 치료제로서의 개발 가능성이 확인됐다”며 “앞으로 CWP291의 약물 재창출 임상시험이 성공할 수 있도록 역량을 집중해 나갈 것”이라고 말했습니다.

 

English(中文·日本語) news is the result of applying Google Translate. <iN THE NEWS> is not responsible for the content of English(中文·日本語) news.

배너

남궁경 기자 nkk@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


배너


배너