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LH, 해외 사업후보지 제안 신청시스템 운영 개시

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Monday, October 19, 2020, 10:10:07

국내기업 제안 받아..컨설팅·조인트벤처 설립 지원

 

인더뉴스 이재형 기자ㅣ한국토지주택공사(LH)는 해외사업 우량 후보지를 확대하기 위해 ‘글로벌 사업후보지 제안 신청시스템’을 구축하고, 제안사업 상시접수를 시작한다고 19일 알렸습니다.

 

이 시스템은 LH가 민간기업 등으로부터 자유롭게 해외 개발사업을 제안 받고 적극 검토하고자 마련됐습니다. 국내기업이 이 시스템에 ▲타당성 조사‧사업컨설팅 요청 ▲JV설립 등 공동투자 제안을 신청하면, LH가 검토 후 기업의 해외 진출을 돕는 방식입니다.

 

신청은 LH 홈페이지 ‘고객지원’ 메뉴-‘글로벌 사업 제안’에 제안후보지와 사업개요, 사업타당성 등을 입력해 제출하면 됩니다.

 

이정관 LH 글로벌사업처장은 “LH는 국내 최대 SOC 공기업으로서 민간기업과의 협력을 확대해 해외 스마트시티 및 산업단지 개발에 선도적인 역할을 수행하겠다”며 “나아가 이번 시스템이 민관공 협력 글로벌사업 플랫폼으로 정착되기를 바란다”라고 말했습니다.

 

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이재형 기자 silentrock@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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