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[이건희 별세] 빈소 찾은 구광모 “첨단산업 발전시킨 위대한 기업인”

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Tuesday, October 27, 2020, 14:10:20

구자열·구자용·구자균 등 범LG가 조문이어져

 

인더뉴스 이진솔 기자 | 구광모 LG그룹 회장이 지난 25일 타계한 고(故) 이건희 삼성전자 회장을 조문했습니다. 빈소가 마련된 삼성서울병원 장례식장에는 정·재계에서 추모의 발길이 이어졌습니다.

 

구광모 회장은 27일 오전 10시 30분경 이건희 회장 빈소가 있는 서울 강남구 삼성서울병원 장례식장을 방문했습니다. 동행객 없이 혼자 모습을 드러낸 구광모 회장은 약 10분간 조문 후 자리를 떠났습니다.

 

심경을 묻는 말에 구광모 회장은 “(고인은)우리나라 첨단 산업을 발전시킨 위대한 기업인이라고 생각한다”며 “재계 어르신분들이 오래 계셔서 많은 가르침을 주시면 좋을 텐데 참 안타깝다”고 말했습니다.

 

 

이어 “유족들에게는 인사드리고 위로의 말씀을 드렸다”며 “재계의 큰 어르신이라 조문 왔다”고 했습니다.

 

앞서 구자열 LS그룹 회장과 동생인 구자용 LS네트웍스 회장, 구자균 LS일렉트릭 회장도 이날 오전 장례식장을 찾았습니다. 구자열 회장은 “(이건희 회장이)좋은 곳에 가셨으리라 생각한다”고 말했습니다.

 

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이진솔 기자 jinsol@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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