검색창 열기 인더뉴스 부·울·경

Health 건강

이뮤니스바이오, NK세포 대량증식법 새로운 특허 취득

URL복사

Tuesday, September 04, 2018, 17:09:56

대식세포‧염증성물질 이용...종양세포에 우수한 세포독성 효과

 

인더뉴스 문정태 기자ㅣ 국내 바이오 제약회사가 면역세포치료제 개발법과 관련한 새로운 특허를 취득했다. 이 회사는 국내 의대들과 함께 면역세포치료제를 개발하기 위해 적극적으로 협력할 계획이다.

 

바이오벤처 이뮤니스바이오는 NK세포(자연살해세포, Natural killer cell)의 대량증식에 대한 특허를 취득했다고 4일 밝혔다. 이뮤니스바이오는 환자 본인의 면역세포인 NK세포를 이용해 항암 면역세포치료제를 개발하는 기업이다.

 

회사에 따르면 이번 특허의 핵심은 대식세포와 염증성 물질을 이용한 NK세포의 대량증식 유도에 관한 것이다. 이는 IFN-γ(인터페론감마)를 분비하는 NK세포의 활성화를 촉진시켜 종양세포에 우수한 세포독성 효과를 갖는 NK세포를 증식하는 방법이라는 설명이다.

 

회사 관계자는 “암 환자의 기존 치료법인 3대 표준 항암요법(수술·방사선·화학)은 부작용 등을 일으킬 수 있다”며 “이러한 단점과 한계를 보완하는 치료법으로 면역세포치료제가 주목받고 있다”고 말했다.

 

면역세포치료제는 건강한 정상 세포에 영향을 주지 않고 종양만을 선택적으로 파괴한다. 인체의 면역체계를 이용한 치료법으로, 환자 자신의 면역세포를 이용하기 때문에 부작용이 적고 약효가 증가되는 효과를 유도할 수 있다.

 

이뮤니스바이오가 주로 배양하는 NK세포는 선천면역세포 중 하나다. 회사 측에 따르면 암세포를 즉각적으로 감지해 제거할 수 있는 장점이 있다. 특히 이 같은 NK세포는 암의 발생과 증식, 전이, 재발 방지에 효과적이라는 사실도 밝혀지고 있다.

 

또, 비특이적으로 암세포와 바이러스 감염세포를 살상하는 T세포·B세포와 달리 다양한 선천면역 수용체를 세포 표면에 발현, 암세포를 구분할 수 있는 것으로 알려져 있다.

 

이뮤니스바이오 관계자는 “NK세포의 대량증식 제조 특허 획득을 통해 해외시장 진출에 박차를 가할 것”이라며 “서울의대, 관동의대 등 대학들과 NK세포를 이용한 면역세포치료제 개발에 속도를 낼 계획”이라고 말했다.

 

한편 이뮤니스바이오는 NK세포치료제 전문 연구 인력이 포진한 기업으로 2016년 3월 설립 후 4개월 만에 면역세포 배양 기술을 획득했다. 이 회사는 올해 4월 NK면역세포 치료 방법에 대해 일본 후생성 심사위원회의 승인을 획득하며 일본 시장에 진출한 바 있다.

English(中文·日本語) news is the result of applying Google Translate. <iN THE NEWS> is not responsible for the content of English(中文·日本語) news.

배너

문정태 기자 hopem1@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


배너


배너