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SK인천석유화학, 친환경 사업에 올해 500억 투자한다

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Sunday, July 14, 2019, 15:07:02

3300억 투자에 이어 에너지 효율화·온실가스 감축 나서
회사 공정열원 활용해 지역 사회 친환경 에너지 공급도

인더뉴스 이진솔 기자ㅣ환경분야 사회적 가치를 높이는 ‘그린 밸런스’ 전략에 따라 SK 이노베이션 계열사 SK 인천석유화학이 생산 시설을 친환경으로 변모시키는데 집중 투자한다.

 

SK 인천석유화학은 14일 ‘안전·보건·환경(SHE) First 경영’을 기반으로 국내 최고 수준 클린 공장을 구현하겠다고 이날 밝혔다. 환경분야 사회적 가치를 높이고자 투자를 늘리고 지역사회에 보탬이 되는 사업을 추진한다.

 

◇ 저감 시설과 공정 최적화에 500억 원 투입..2006년 이후 3300억 집중 투자

 

 

SK인천석유화학은 지난 2006년부터 SHE에 3300억 원 이상을 투자해 왔다. 올해는 500억 원 이상을 들여 오염물질 배출 저감 시설 추가 설치와 공정시설 최적화에 나선다.

 

우선 하반기 예정된 정기보수 기간에 배연탈질설비(SCR·Selective Catalyst Reduction)를 추가로 설치한다. 대표적 대기오염물질인 질소산화물(NOx) 배출량을 연간 83톤 이상 감축할 계획이다.

 

또한 열교환망을 최적화하고 원유 정제 설비를 교체한다. 연평균 전체 연료 사용량 2%를 줄이고 온실가스(CO2) 배출량을 연간 약 3만 6000톤 감축할 예정이다.

 

앞서 SK인천석유화학은 SK로 인수된 2006년부터 친환경·안전 분야에 집중 투자해왔다. 지난해 기준 먼지(Dust)는 10년전인 2008년 보다 97% 감소했다. 황산화물(SOx)과 질소산화물(NOx)은 2006년과 비교해 각각 84.7%, 69.3% 줄었다.

 

SK인천석유화학은 “지난 2014년 1조 6000억 원이 투입된 대규모 신설 공장이 추가로 가동 되었음에도 대기배출량이 감소한 것은 SHE 관리 시스템 강화와 친환경 분야에 집중투자한 결과”라고 말했다.

 

◇ 지역 4만 가구에 냉난방 에너지 공급하는 에너지 업사이클링 추진

 

SK인천석유화학은 공유인프라로 친환경 사회적 가치를 만드는 ‘에너지 업사이클링’ 사업을 오는 11월 시작한다. 인천 지역 대규모 주거 단지에 냉난방용 에너지를 안정적으로 공급하는 프로젝트다. 회사 생산공정 열원과 집단에너지사 열배관망 네트워크 인프라를 연계해 추진한다.

 

총 공급규모는 연간 약 28만 Gcal이다. 이는 37MW급 복합화력발전소 생산량으로 일반가정 4만 세대가 1년 동안 쓸 수 있는 양이다.

 

프로젝트가 가동되면 에너지 사용량으로 LNG 연간 약 2만 7000톤 또는 유연탄 5만 6000톤을 줄일 수 있다. 또 온실가스 연간 약 5만 톤과 황산화물, 질소산화물, 미세먼지 등 대기오염물질 약 100톤 감축 효과가 있다.

 

이 밖에도 SK인천석유화학은 최신 디지털 기술을 공정 운영 노하우에 접목하고 있다. 폐기물 저감 기술, 폐수 처리 신기술, 가상 공정 운전 모델을 활용한 생산 효율 최적화 등 다양한 분야에서 친환경 기술개발을 가속한다는 계획이다.

 

최남규 SK인천석유화학 사장은 “SK인천석유화학은 지역사회와의 상생을 기반으로 성장해왔다”며 “그만큼 지속적인 그린밸런스 혁신으로 친환경·안전 공장을 만들어 지역사회로부터 더욱 사랑 받는 기업이 되겠다”고 말했다.

 

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이진솔 기자 jinsol@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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