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‘더샵 프리미엘’ 전 주택형 1순위 마감...최고 경쟁률 64대 1

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Wednesday, November 25, 2020, 17:11:44

43가구에 2780명이 몰려..내달 정당계약 실시

 

인더뉴스 이재형 기자ㅣ포스코건설이 대구광역시 북구 침산동에 분양한 ‘더샵 프리미엘’이 최고 64.65대 1의 경쟁률을 기록하며, 전 주택형 청약 1순위에서 마감했습니다.

 

한국감정원 청약홈에 따르면 24일 더샵 프리미엘 1순위 청약접수 결과, 189가구(특별공급 제외) 모집에 4728명이 신청해 평균 25.02대 1의 경쟁률을 기록했습니다.

 

주택형 별로는 43가구에 2780명이 몰린 전용면적 84㎡A이 64.65대 1로 최고 경쟁률을 기록했습니다. 이어 ▲84㎡B 43.68대 1 ▲70㎡A 8.76대 1 ▲70㎡B 7.32대 1 순으로 경쟁률이 높았습니다.

 

분양 관계자는 “더샵 프리미엘은 대구에서 높은 관심을 이어가는 세 번째 ‘더샵’ 브랜드 단지”라며 “상품성이 뛰어나고 살기 좋은 동네로 소문난 침산동에 들어선다는 점에서 많은 고객분들의 관심을 받은 것 같다”고 말했습니다.

 

‘더샵 프리미엘’의 당첨자 발표는 오는 12월 1일, 정당 계약은 12월 14~16일에 진행됩니다. 전매제한은 3년이며 소유권 이전 등기 전에 전매할 수 있고 계약금 1차 1000만원 정액제가 적용됩니다. 입주는 2024년 9월로 예정입니다.

 

단지는 지상 최고 48층, 3개 동, 아파트 300가구, 주거형 오피스텔 156실 규모로 조성됩니다. 전용면적별 가구수는 아파트 ▲70㎡A 85가구 ▲70㎡B 85가구 ▲84㎡A 87가구 ▲84㎡B 43가구, 오피스텔 ▲84㎡ 156실입니다. 

 

교육시설은 칠성초(배정 예정), 침산초, 달산초, 침산중, 대구일중, 칠성고, 경상여고 등 초·중·고교가 인근에 다수 있고 북구 명문 침산네거리 명문학원가와 가깝습니다.

 

교통시설은 신천대로가 인근에 있고 북대구IC와 서대구IC를 이용할 수 있습니다. 이외에는 다수 버스노선과 대구지하철 1호선 대구역이 있습니다.

 

문화시설은 대형마트와 칠성시장은, 오페라하우스, 대구복합스포츠타운, 침산공원 이 있고 국민연금공단, 창조경제 혁신센터, 한국전력공사, 북대구세무서, 대구시청 등 행정 편의시설 접근성이 좋습니다. 내년에는 경북도청 이전적지가 착공합니다.

 

단지에는 남향 위주의 동 배치와 개방감을 넓힌 4베이(Bay) 판상형 구조가 전 가구에 적용됩니다. 드레스룸, 팬트리 등으로 수납공간을 강화했고 라이프스타일에 따라 알파룸이나 대형팬트리(일부세대)를 선택할 수 있습니다.

 

‘더샵 프리미엘’의 견본주택은 대구시 수성구 범어동(대구지하철 2호선 범어역 4번 출구 인근)에 있습니다. 

 

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이재형 기자 silentrock@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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