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LG화학, 지난해 매출 첫 30조원 돌파...‘창사 이래 최대 실적’

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Wednesday, January 27, 2021, 17:01:05

에너지솔루션 부문 호조 영향..영업이익은 작년보다 185.1%↑

 

인더뉴스 안정호 기자ㅣLG화학(부회장 신학철)이 코로나19 여파에도 지난해 30조원이 넘는 매출을 올리면서 연간 기준 역대 최대 실적을 달성했습니다.

 

27일 LG화학에 따르면 지난해 실적(연결 기준)은 매출 30조 575억원, 영업이익 2조 3532억원을 기록했습니다. 이는 전년 대비 각각 9.9%, 185.1% 늘어난 수치입니다. LG화학의 연간 매출액이 30조원을 넘어선 건 이번이 처음입니다.

 

사업별 매출은 석유화학이 전년 같은 기간 대비 8.2% 줄어든 14조 2659억원을 기록했습니다. 첨단소재는 4.5% 늘어난 3조 6108억, 에너지솔루션은 48%가량 급증해 12조 3557억원을 나타냈습니다. 생명과학은 6614억원으로 5.3% 늘었습니다.

 

지난해 4분기 매출은 8조 8858억원으로 전년 동기 대비 19.9% 증가했으며, 영업이익은 6737억원으로 흑자 전환했습니다.

 

차동석 최고재무책임자(CFO)는 “코로나19 팬데믹(세계적 대유행) 속에서도 매출액이 역대 처음으로 30조원을 돌파했고, 상각전영업이익(EBITDA)도 사상 최대인 4조 6000억원을 기록했다”며 “지난해 4분기 전지사업의 성공적 분사와 지속적 흑자기조 유지 등 성장을 위한 경쟁력을 강화하는 성과도 있었다”고 평가했습니다.

 

LG화학은 올해 매출 목표를 전년 대비 24.1% 증가한 37조 3000억원으로 설정했습니다. 차동석 CFO는 “올해 전지재료, 지속가능 솔루션, 이모빌리티(e-Mobility) 소재, 글로벌 신약 개발 등 4대 중점 사업 영역과 신성장 동력에 회사가 가진 역량과 자원을 집중하겠다”고 밝혔습니다.

 

사업별 전망에 대해서는 석유화학부문은 동북아 지역 내 신증설 물량 출회에 따른 공급 증가 우려가 있지만, 글로벌 경기 회복과 주요 산업의 수요 개선이 나타날 것으로 예상했습니다.

 

첨단소재부문은 전지, 유기발광다이오드(OLED), IT 등 전방시장 수요 증대가 기대되는 만큼 하이니켈 전지소재 집중 육성을 위한 생산능력 확보와 음극바인더, 방열접착제 등 추가적인 전지소재 육성도 적극 추진할 계획이라고 밝혔습니다.

 

생명과학부문은 신제품 유폴리오(소아마비 백신) 등 유니세프 공급과 이브아르(필러) 등 기존 사업 확대로 올해 매출이 작년보다 10% 이상 성장할 것으로 전망했습니다.

 

지난해 12월 공식 출범한 에너지솔루션은 신규 전기차 모델 출시와 에너지저장장치(ESS) 해외 수주 증가 등으로 올해 50% 이상 매출 증대를 기대했습니다.

 

LG화학 관계자는 “이플랫폼(e-Platform) 사업, 차세대 전지 개발 등을 통해 미래 준비를 강화할 계획”이라고 말했습니다.

 

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안정호 기자 vividocu@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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