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“처음부터 미국에서”..GC녹십자, 프리미엄 백신 개발전략

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Monday, May 21, 2018, 11:05:50

현지 법인 ‘큐레보’ 설립..차세대 대상포진백신 연내 미국 임상 돌입 예정

 

인더뉴스 박광우 기자ㅣ GC녹십자가 의약품 본고장으로 불리는 미국에서 차세대 프리미엄 백신을 개발한다.

 

GC녹십자(대표 허은철)는 미국 워싱턴 주 시애틀에 신규 법인 ‘큐레보(CUREVO)’를 설립, 차세대 백신 개발에 나선다고 21일 밝혔다.

 

새로 설립된 큐레보는 올 하반기에 GC녹십자와 목암생명과학연구소가 공동으로 개발한 대상포진백신 ‘CRV-101’ (GC녹십자 프로젝트명: ‘MG1120’)의 미국 현지 임상에 착수할 계획이다.

 

그간 필수 기초 백신 분야에서 뚜렷한 성과를 내온 GC녹십자가 성인 대상의 고가(高價) ‘프리미엄 백신’ 개발에 본격적으로 나선 것은 이번이 처음이다. 회사 측은 기존 제품 대비 한 세대 진일보한 기술적 경쟁력을 가진 차세대 대상포진백신을 개발한다는 포부다.

 

기존 백신과 유사해 가격으로만 승부해야 하는 후발 제품으로는 경쟁력이 없다. 이 때문에 상용화까지의 기간을 고려해 동급이 아닌 ‘동종 최고(Best-In-Class)’ 제품 개발에 나선 것으로 보인다.

 

프리미엄 백신은 매년 두 자릿수 성장세를 보이며 시장 규모가 빠른 속도로 커지고 있다. 특히 8억 달러 규모의 대상포진백신 글로벌 시장은 10년 내 지금의 2배 크기가 될 것으로 제약업계는 내다보고 있다.

 

이번 발표에서 GC녹십자가 백신 신제품을 국내에서 개발하지 않고 현지 법인까지 세워 미국으로 직행하는 길을 택한 점도 주목할 부분. 제약사가 이른바 ‘글로벌 제품’을 만들기 위해서 미국은 반드시 넘어야 할 큰 산이다.

 

회사 관계자는 “전세계에서 가장 선진화된 기준을 적용해 의약품 허가를 내주는 국가일 뿐만 아니라 프리미엄 백신 시장의 절반 이상을 차지하고 있다”며 “GC녹십자의 목표점이 글로벌 시장으로 향하고 있는 만큼 미국에서의 허가를 기반으로 글로벌 시장으로 넓혀가는 길을 걷는 것”이라고 설명했다.

 

큐레보는 당분간 차세대 대상포진백신 임상개발에 집중할 계획이다. 법인 운영은 현지에서 결합하는 형태를 취한다. 이미 미국 감염병 전문 연구기관인 이드리(IDRI: Infectious Disease Research Institute)와는 기술적, 인적 파트너십이 맺어져 있다.

 

과제 총괄은 세계적인 감염병 분야 석학이자 북미에서 대규모 임상을 이끈 경험이 풍부한 IDRI의 코리 캐스퍼(Corey Casper) 박사가 맡았다. 큐레보는 별도 법인 형태로 세워졌기 때문에 앞으로 외부와의 협력이나 투자 유치 등도 개별적으로 나설 예정이다. 

 

허은철 GC녹십자 사장은 “글로벌 무대에서의 성공 여부는 비즈니스의 전략적 접근 방향에서부터 판가름 난다”며 “이번에 발표한 신규 법인 설립과 개발 과제는 장기적인 성장 동력 확보 차원”이라고 말했다. 

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박광우 기자 kw.park@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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