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KT, 5G 백본망에 국내 최초 메시 적용...지연↓안정성↑

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Tuesday, February 12, 2019, 11:02:15

지역 간 트래픽 연결 다양해져..부산-광주 트래픽 전달시간 최대 63% 빨라져

인더뉴스 주동일 기자ㅣ KT가 최상위 네트워크망을 메시 구조로 바꿨다. 지역 간 트래픽 연결 경로가 다양해져 지연속도를 낮추고 안정적인 서비스 제공이 가능해질 것으로 보인다.

 

KT(회장 황창규)는 국내 최초로 5G 백본망에 전국 주요 도시를 직접 연결하는 메시(Mesh) 구조 적용을 완료했다고 12일 밝혔다. 고품질 초저지연 5G 서비스를 제공할 수 있을 것으로 보인다.

 

5G는 LTE보다 전송속도(20Gbps)가 최대 20배 빠르고 지연 시간이 10분의 1로 준다. 5G 요구사항에 맞춰 대용량 트래픽을 초저지연으로 처리하려면 무선망에서의 지연을 줄이는 것도 중요하지만, 전국 지역 간 트래픽 전달 시 발생하는 백본망에서의 지연도 고려해야 한다. 

 

백본망은 기간망이라고도 불리며 이동통신망·인터넷·전화망 등 다양한 네트워크를 잇는 최상위 네트워크다. KT는 백본망 지연을 최소화하기 위해 국내 최초로 5G 백본망에 메시(Mesh) 구조를 적용해 지역 간 트래픽 전송지연을 대폭 줄였다. 

 

기존 유무선 통신 백본망은 트래픽을 처리할 때 각 지역을 직접 연결하는 경로가 없다. 예를 들어 부산과 광주 사이 트래픽을 처리할 땐 수도권 센터를 경유 해야만 했다. 이때 트래픽 전달 거리가 증가해 전송지연이 발생한다.

 

하지만 KT가 5G 백본망에 적용한 메시 구조는 전국 주요 지역센터끼리 직접 연결하는 그물형 구조다. 전국 주요 지역센터 간 직접 연결 경로가 생겨 지역 간 트래픽을 전달할 때 수도권 센터를 경유할 필요가 없어 전송지연을 획기적으로 줄일 수 있을 것이란 기대다.

 

부산과 광주 간 트래픽을 처리할 경우, 수도권을 경유하는 기존 백본망에선 약 16ms 전송지연이 발생한다. 반면 메시 구조의 5G 백본망에서는 약 6ms의 전송지연으로 최대 63%까지 지연 시간이 줄어든다. 

 

또 메시 구조에선 특정 구간에 장애가 생겨도 다른 대체 경로를 확보할 수 있다. 연결 경로가 다양해지기 때문이다. 이로써 망 생존성을 높이고 보다 안정적으로 서비스를 제공 할 수 있을 것으로 보인다. KT는 향후 5G 메시 백본망에 기반한 고품질 5G 서비스를 제공할 계획이다.

 

서창석 KT 네트워크전략본부장 전무는 “이번 5G 백본망 Mesh 구조 적용으로 5G 시대에 고객들이 실생활에서 체감할 수 있는 고품질·초저지연 통신서비스를 더욱 안정적으로 제공할 것”이라고 말했다.

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주동일 기자 jdi@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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