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코로나에 막힌 NH농협銀 명예퇴직...역대급 보상에도 신청자 되레 감소

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Monday, December 14, 2020, 06:12:00

최대 39개월 보상하는데 신청자 503명 그쳐
2018년 597명, 2017 534명보다 적은 규모
“코로나19 여파로 자영업·재취업 어려워져”

 

인더뉴스 유은실 기자ㅣNH농협은행(은행장 손병환)이 올해 역대급 퇴직 조건을 내걸고 명예퇴직을 실시했지만 되려 신청자는 예상을 밑돌았습니다. 코로나19 장기화에 따른 불안감이 크게 작용한 것으로 풀이되고 있습니다.

 

14일 은행권에 따르면 지난달 26~30일 실시된 NH농협은행의 명예퇴직 접수에는 모두 503명의 신청자가 나왔습니다.

 

은행권 희망퇴직자 신청은 기본적으로 보상 규모와 직접 연결됩니다. 정년을 앞둔 직원이 아니라도 보상 규모가 크면 퇴직을 고려할 수 밖에 없다는 겁니다.

 

그러나 올해 보상 규모가 역대급이라는 평가와는 다르게 농협은행의 신청자 수는 예년과 비슷하거나 오히려 줄었습니다. 지난 2018년에는 597명이, 2017년에는 534명이 각각 명예퇴직으로 은행을 떠났습니다.

 

일부에서는 너무 많은 희망자가 나와 업무에 차질을 빚는 것 아니냐는 우려가 나오기도 했으나 그럴 일은 없게 됐습니다.

 

올해는 작년과 다르게 10년 이상 근무하고 만 40세 이상인 일반 직원 중 명예퇴직을 신청한 직원에게 출생 연도에 따라 퇴직금을 차등 지급하기로 결정했습니다. 1965년생과 1966년생은 각각 35개월, 37개월 치의 임금을 퇴직금으로 받게 됩니다.

 

또 3급 이상 직원중 1967~1970년생은 39개월 치 월평균 임금을, 1971~1980년생에게는 20개월치를 퇴직금으로 지급합니다. 올해는 명퇴자를 대상으로 퇴직금 외에 전직지원금도 추가로 나갑니다. 만 56세(1964년생) 직원에겐 작년과 동일하게 월평균 임금의 28개월 치를 퇴직금으로 지급할 예정입니다.

 

이같은 파격적 보상에도 예상보다 적은 신청자가 나온 이유는 우선 코로나19가 꼽힙니다.

 

올해 코로나19 여파로 경기가 나빠지면서 퇴직 이후의 선택지 중 하나인 자영업도 크게 어려워졌습니다. 또 지난해 7월부터 은행권에서 주 52시간 근무제가 시행되면서 근무 여건이 나아지고 있다는 점도 복합적으로 작용했다는 평가입니다.

 

실제로 5대 시중은행 희망퇴직 규모는 2017년 4940명, 2018년 2150명, 2019년 1762명으로 점차 줄고 있습니다.

 

NH농협은행 관계자는 “이번 명예퇴직의 보상 조건은 역대급이긴 했지만, 코로나 시국 등의 영향으로 은행이 우려한 수준만큼 신청자가 많지는 않았다”고 말했습니다.

 

이어 “명예퇴직 대상자가 1980년대생까지 확대된 것은 맞지만 이는 혹시 신청하고 싶은 직원들에게 선택권을 주는 의도”라며 “80년대생 중 실제 신청한 직원의 숫자는 굉장히 작은 편이고, 신청자의 75% 정도가 정년에 임박한 직원들”이라고 덧붙였습니다.

 

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유은실 기자 yes24@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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