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포스코건설, ‘더샵 거창포르시엘 2차’ 7월 4일부터 청약

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Thursday, June 23, 2022, 15:06:57

지하 2층~지상 20층·6개동·84~158㎡·443가구 조성

 

인더뉴스 홍승표 기자ㅣ포스코건설은 경남 거창 가지리 일원에 공급하는 ‘더샵 거창포르시엘 2차’ 단지의 모델하우스를 24일 오픈하고 본격적인 분양에 들어간다고 23일 밝혔습니다.

 

단지는 지하 2층~지상 20층, 6개동, 전용 84~158㎡, 443가구 규모로 조성됩니다. 타입 별 가구 수는 ▲84㎡A 214가구 ▲84㎡B 131가구 ▲84㎡C 16가구 ▲109㎡ 38가구 ▲119㎡ 38가구 ▲141㎡ 2가구 ▲158㎡ 4가구입니다.  

 

포스코건설 측은 "타 지역으로의 접근성이 좋고 학군과 행정시설, 생활편의시설도 잘 갖춰져 있는 것이 단지의 장점"이라며 "입주민의 주거 편의와 쾌적한 생활에 초점을 맞추고 차별화된 설계를 도입했다"고 설명했습니다.

 

단지 주변에 광주대구고속도로와 대전통영고속도로가 있어 타 지역으로의 수월한 이동이 가능하며, 함양울산고속도로, 달빛내륙철도 등도 예정돼 있어 교통 여건이 더욱 좋아질 전망입니다. 사업지 북측에 단지 진입로와 연결되는 4차선 계획도로도 내년 개통을 앞두고 있습니다.

 

전국단위 자율고인 대성고, 거창고를 비롯한 학군도 단지에서 가까워 입주민 자녀들의 통학을 도울 것으로 보이며 주요 생활편의시설과 행정기관도 인접해 있습니다. 창원지방법원 및 검찰청(거창지원) 등이 이전하는 거창 법조타운이 단지 인근에 들어올 예정이라는 것도 생활 편의 향상에 도움을 줄 것으로 보고 있습니다,

 

단지는 ‘더샵’만의 차별화된 설계를 바탕으로 입주민들의 주거 편의성을 위해 전기차 충전 설비를 설치할 예정입니다. 조명, 난방, 가스 및 환기 등을 자동제어하는 포스코건설의 스마트 기술인 아이큐텍(AiQ TECH)과 승강기 내부에 UV-C LED 살균조명도 도입합니다.

 

이와 함께, 태양광 발전 시스템, 주차장 웰컴라이팅 및 대기전력 차단 시스템 등 효율적인 에너지 설비를 설치하고 ‘우리집 앞 안심시스템’ 및 ‘3선 보안 시스템’ 등을 적용해 쾌적하고 안전한 주거 환경을 조성할 예정입니다. 커뮤니티 시설은 스포츠존, 에듀존, 키즈하우스 등의 퍼블릭존으로 다채롭게 구성됩니다.

 

청약 일정은 오는 7월 4일 특별공급을 시작으로 5일 1순위 청약, 6일 2순위 청약 접수 순으로 이어집니다. 이후 오는 7월 12일 당첨자를 발표하며 정당계약은 7월 26일에서 29일까지 4일간 진행됩니다.

 

분양 관계자는 "더샵 거창포르시엘 2차는 1차 단지 분양을 받지 못한 수요자들을 중심으로 일찌감치 뜨거운 관심을 받았다"며 "1군 건설사의 완성도 높은 상품성과 탁월한 입지여건, 비규제 프리미엄 등을 모두 갖춘 만큼 많은 분들이 청약을 접수할 것으로 예상된다"고 말했습니다.

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홍승표 기자 softman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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