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포스코케미칼·동서화학공업, ‘활성탄소 신사업’ 맞손

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Thursday, January 12, 2023, 14:01:45

활성탄소 사업 협력 위한 양해각서 체결
합작법인 설립..2024년 연산 7천톤 규모 공장 설립

 

인더뉴스 홍승표 기자ㅣ포스코케미칼[003670]이 동서화학공업과 함께 수질·대기 정화용 친환경 소재로 주목받는 활성탄소 신사업을 추진합니다.

 

12일 포스코케미칼에 따르면, 지난 11일 동서화학공업과 활성탄소 사업 협력을 위한 양해각서를 체결했습니다.

 

활성탄소는 목재, 석탄 등의 탄소질 원료를 고열로 가공해 제조하는 친환경 소재로 미세 기공의 강한 흡착성을 활용해 오염물질을 제거할 수 있어 수질·대기 정화제와 필터 등에 활용되고 있습니다. 최근에는 슈퍼커패시터 등 고출력 에너지 저장장치까지 산업 전반에서 다양하게 활용되고 있습니다.

 

협약을 통해 양사는 올해 하반기 활성탄소 합작법인을 설립하고 오는 2024년 말까지 연산 7천톤 규모의 활성탄소 공장을 준공할 예정입니다.

 

합작법인의 경우 제철공정의 코크스 제조 중 생성된 유분을 재활용해 제품을 생산하게 되며 시장 상황에 따라 생산능력을 단계적으로 확대할 계획입니다. 포스코케미칼은 원료 공급과 활성탄소 제조를, 동서화학공업은 원료 가공을 맡게 됩니다.

 

지난해 기준 활성탄소 시장은 글로벌 6조원, 국내 2500억원 규모로 국내 사용량의 80% 이상이 수입에 의존하고 있어, 이번 합작을 통해 국내 생산이 가능해져 공급망이 안정될 것으로 기대한다고 포스코케미칼 측은 설명했습니다.

 

제철공장 부산물을 가공해 고부가가치 소재를 제조하며 친환경 탄소소재 사업 포트폴리오도 확대할 수 있을 것으로 내다보고 있습니다. 포스코케미칼은 지난 2021년 10월 제철공정 부산물인 침상코크스를 원료로 활용하는 인조흑연 음극재 공장, 지난해 10월 자회사 피앤오케미칼을 통해 제철공정 중 발생한 코크스오븐가스를 활용하는 고순도 과산화수소 공장을 준공한 바 있습니다.

 

김준형 포스코케미칼 사장은 "국내 생산이 꼭 필요한 친환경소재 사업을 위해 우수한 기술을 보유한 동서화학공업과 협력할 수 있게 돼 기쁘다"며 "친환경 트렌드, 자국 중심 공급망 구축 등 변화하는 산업환경에 대응하기 위해 새로운 소재 개발과 제조기술 확보에 더욱 역량을 집중해 나갈 것"이라고 말했습니다.

 

전장열 동서화학공업 회장은 "활성탄소는 용도, 사용범위, 미래가치를 볼 때 공공재 성격이 강하다"며 "친환경 소재산업을 리딩하는 포스코케미칼과 소재 국산화, 공급망 안정성을 위해 노력하고 탄소중립과 산업 경쟁력 강화에 기여해 나가겠다"고 밝혔습니다.

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홍승표 기자 softman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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