인더뉴스 이진솔 기자ㅣ SK하이닉스가 주력 D램공장 확장 공사를 마무리하고 가동에 들어간다.
SK하이닉스가 18일 중국 장쑤(江蘇)성 우시(無錫)에서 메모리 반도체 확장팹(C2F) 준공식을 열었다. ‘새로운 도약, 새로운 미래(芯的飞跃 芯的未来)’를 주제로 열린 행사에는 이석희 SK하이닉스 대표이사 등 SK하이닉스 임직원과 우시시 관계자들이 참석했다.
이번에 준공한 C2F는 기존 D램 생산설비인 C2를 확장한 것이다. SK하이닉스는 미세공정 전환에 따른 생산공간 부족 문제를 해결하기 위해 지난 2016년 확장을 결정했다.
SK하이닉스는 2004년 중국 우시시와 현지 공장 설립 계약을 맺고 2006년 D램 생산 공장인 C2를 준공했다. 우시공장은 SK하이닉스의 첫 300mm 팹(FAB)으로 D램 생산의 절반을 담당하는 등 회사 성장에 기여해왔다.
하지만 공정 미세화에 따라 공정수가 늘고 장비 대형화로 공간이 부족해졌다. 미세공정 전환에 필요한 공간이 추가 확보되지 않으면 생산량 감소 등 효율 저하가 불가피하다.
이에 SK하이닉스는 2017년 6월부터 올해 4월까지 9500억 원을 투입해 추가로 반도체 생산 공간을 확보했다. 미세공정에 필요한 클린룸이 확장돼 생산성과 경쟁력은 유지하면서 D램 산업 내 리더십도 지속 확보가 가능할 것으로 전망된다.
이번에 준공한 C2F는 건축면적 5만 8000㎡(1만 7500평·길이 316m·폭 180m·높이51m) 규모 단층 팹으로 기존 C2 공장과 비슷한 규모다. SK하이닉스는 일부 클린룸 공사를 마치고 장비를 입고해 생산을 시작했다. 추가적인 클린룸 공사와 장비 입고 시기는 시황에 맞춰 결정할 예정이다.
강영수 SK하이닉스 우시FAB담당 전무는 “C2F 준공을 통해 우시 팹의 중장기 경쟁력을 확보하게 됐다”며 “C2F는 기존 C2 공장과 ‘원 팹(One FAB)’으로 운영 함으로써 우시 팹의 생산∙운영 효율을 극대화할 것”이라고 말했다.
