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LH ‘대구연호 A3’, 공공주택 설계 국가 공모전 대상

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Thursday, December 10, 2020, 10:12:10

국토교통부장관상에 시흥하중 A3, LH사장상에 한국교육개발원부지 선정

 

인더뉴스 이재형 기자ㅣ국토교통부(장관 김현미)는 공공주택 디자인 혁신을 위한 ‘2020년 대한민국 공공주택 설계공모 대전(이하 설계공모대전)‘ 에서 대구연호 A3지구 - “NEW NORMAL LIFE 'HOUSE' NEW BALANCING”을 최우수작(국가건축정책위원장상)으로 선정했다고 10일 알렸습니다.

 

설계공모대전은 디자인이 획일화된 공공주택에서 벗어나 특화설계를 통해 주택건축의 변화를 선도하고 누구나 살고 싶은 품격 있는 공공주택을 만든다는 취지로 2018년부터 매년 개최된 공모전입니다.

 

올해 설계공모대전은 ‘새로운 일상 머물고 싶은 H.O.U.S.E.’를 주제로 코로나19로 바뀐 일상을 치유하고 대응하는 주거공간의 대안을 찾기 위해 추진됐습니다. LH, SH, 경기주택도시공사(GH), 제주개발공사 등 4개 지방공사가 참여해 총 56개 작품을 출품했는데요.

 

설계공모대전은 전문가의 서류 및 발표심사를 통해 15개 지구별 당선작을 선별하고 지난달 9~13일 온라인 국민투표를 통해 이중 국민들이 가장 선호하는 3개 작품을 최종 우수작품으로 선정했습니다. 국가건축위원장상에 대구연호 A3(행복주택) 국토교통부장관상에 시흥하중 A3(신혼희망), LH사장상에 한국교육개발원부지(행복 및 노인복지)가 각각 선정됐습니다.

 

최우수작으로 선정된 ‘대구연호 A3’는 LH가 개발 중인 곳으로, 주변과의 조화와 관계성이 돋보이는 단지구조와 다양한 동과 동 사이의 편의시설 공간을 유기적으로 연결하는 외부공간의 ‘입체적 데크’ 계획, 안전한 집콕 생활을 위한 실내정원·가변형 공간체계 등 새로운 일상이 요구하는 공간을 제시했다는 평가를 받았습니다.

 

최종 우수작품에는 국가건축위원회 위원장상, 국토교통부 장관상, 한국토지주택공사 사장상이 각각 수여됩니다. 시상식은 사회적 거리두기 지침에 따라 오는 16일 열리는 주거복지한마당 행사와 연계해 진행합니다.

 

당선작 소개, 시상 장면, 전시내용 등은 오는 22일 유튜브 채널(PHM TV)을 통해서 공개됩니다. 공모대전에서 당선된 15개 작품은 공모대전 전용 홈페이지를 통해 15일부터 모형 등으로 전시합니다.

 

김규철 국토교통부 공공주택추진단장은 “이번 설계공모대전은 포스트코로나 시대 새로운 주거라이프 스타일 변화에 발맞추어 공공주택이 나아갈 방향을 찾는 의미있는 시간”이라며 “국민 눈높이에 맞는 다양하고 창의적인 디자인을 지속적으로 발굴하여 품격높은 공공주택을 공급할 계획이며, 주거문화를 새로이 디자인 하는 여정에 국민여러분의 많은 관심과 참여를 부탁드린다”고 말했습니다.

 

English(中文·日本語) news is the result of applying Google Translate. <iN THE NEWS> is not responsible for the content of English(中文·日本語) news.

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이재형 기자 silentrock@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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