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코로나 신규 확진 1014명…사망자 22명 '하루 최다'

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Thursday, December 17, 2020, 10:12:17

서울 423명-경기 291명-인천 80명-부산 44명-경남 30명

 

인더뉴스 남궁경 기자ㅣ코로나 3차 대유행이 확산세가 커지면서 17일 신규확진자 수는 전날에 이어 1000명 선을 넘었습니다. 올해 1월 20일 국내에서 첫 확진자가 나온 이래 신규 확진자가 이틀 연속 1000명을 넘은 것은 이번이 처음입니다. 사망자 또한 하루사이 22명이 늘며 역대 최다 기록을 세웠습니다.

 

중앙방역대책본부는 이날 0시 기준으로 코로나19 신규 확진자가 1014명 늘어 누적 4만 6453명이라고 밝혔습니다. 전날(1078명)보다 64명 줄었지만, 이틀째 1000명대를 기록했습니다.

 

이날 신규 확진자의 감염경로를 보면 지역발생이 993명, 해외유입이 21명입니다.

 

지역발생 확진자는 전날(1054명)보다 61명 줄었습니다. 서울에선 확진자 423명이 발생하면서 역대 최다 규모를 기록했으며 경기 284명, 인천 80명 등 수도권에서만 787명이 확진됐습니다.

 

수도권 이외 지역에서는 부산이 44명으로 가장 많고 이어 경남 30명, 대구 20명, 충북 19명, 전북 18명, 충남 17명, 제주 12명, 대전 11명, 광주 10명, 울산 10명, 강원 9명, 경북 9명입니다.

 

주요 감염 사례를 보면 서울 용산구의 한 건설 현장과 관련해 61명이 무더기로 양성 판정을 받았고, 경기도 고양시의 한 요양병원에서도 총 30명이 감염됐습니다. 강원 평창군의 한 스키장에서 지금까지 11명이 확진된 것을 비롯해 충남 보령시 아주자동차대학(누적 21명), 충북 제천시 종교시설(23명) 등에서 확진자가 나왔습니다.

 

해외유입 확진자는 21명으로, 전날(24명)보다 3명 줄었습니다. 이 가운데 7명은 공항이나 항만 입국 검역 과정에서 확인됐는데요. 나머지 14명은 경기(7명), 서울(3명), 충남(2명), 대구·전북(각 1명) 지역 거주지나 임시생활시설에서 자가격리하던 중 양성 판정을 받았습니다.

 

이들의 유입 추정 국가는 미국이 7명으로 가장 많았고 인도네시아 4명, 스웨덴 2명, 필리핀·러시아·인도·독일·벨라루스·헝가리·알제리·튀니지 각 1명 순으로 나타났습니다. 내국인이 11명, 외국인이 10명입니다.

 

사망자는 전날보다 22명 늘어 누적 634명이 됐으며, 국내 평균 치명률은 1.36%입니다. 사망자 22명은 코로나 발생 이후 최다 기록이기도 합니다.

 

위중증 환자는 전날보다 16명 늘어난 242명입니다. 이날까지 격리해제된 확진자는 663명 늘어 누적 3만 3610명이 됐습니다. 현재 격리치료 중인 환자는 1만 2209명입니다.

 

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남궁경 기자 nkk@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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