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국토부, 23일부터 공공 직접시행 정비사업 컨설팅 단지 모집

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Monday, February 22, 2021, 18:02:02

LH·SH, 재개발·재건축 사업 계획 주도
사업계획, 예상 분담금 등 사업 추진 위한 정보 제공

 

인더뉴스 안정호 기자ㅣ국토교통부(이하 국토부)는 23일부터 서울시와 함께 공공 직접시행 정비사업의 컨설팅 단지 모집을 시작한다고 22일 밝혔습니다.

 

국토부는 이번 컨설팅이 조합 등에게 공공직접시행 정비사업의 장점을 적극적으로 알리고, 기존 정비사업과 차이를 비교해 주민이 합리적 사업방식 선택을 돕기 위한 것이라고 전했습니다.

 

공공 직접시행 정비사업은 한국토지주택공사(LH)와 서울주택도시공사(SH) 등 공공기관이 주민 동의를 거쳐 재개발·재건축을 직접 시행하면서 도심 내 신속한 주거환경 정비와 주택공급을 도모하는 제도입니다.

 

해당 사업을 추진하면 사업계획 통합심의 등으로 행정절차 간소화가 가능하며 정비구역 지정부터 이주까지 소요되는 기간을 기존 13년에서 5년 이내로 단축할 수 있습니다.

 

아울러 공공시행자가 1단계 종상향 또는 법적상한용적률의 120% 상향 등 도시규제 완화와 재건축 부담금 면제 특례를 토대로 민간 정비사업으로 추진할 경우보다 10~30%포인트 높은 수익률을 보장한다고 국토부는 설명했습니다.

 

컨설팅은 지난 17일 LH 등 공급 유관기관과 함께 개소한 공공주도 3080+ 통합지원센터에서 진행합니다. 서울뿐만 아니라 경기, 인천 및 지방 광역대도시권에도 통합지원센터를 설치·운영합니다.

 

기존 정비구역 또는 정비예정구역이 컨설팅 대상으로 구역을 대표하는 추진위원장 또는 조합장이 신청 가능합니다. 단 추진위원회 구성 전으로 대표자가 불명확한 초기 사업장은 추진위준비위원회 또는 소유자 협의회 대표 등 주민을 대표할 수 있는 사람이 신청할 수 있습니다.

 

국토부는 오는 4월부터 컨설팅 결과를 신청인에게 회신한 후, 컨설팅 결과를 토대로 주민 2분의 1 이상의 동의를 거쳐 공공직접시행 정비사업을 위한 정비계획을 제안할 예정입니다.

 

정비계획 변경 제안을 받은 공공시행자는 구체적인 정비계획안을 마련하고, 정비계획안에 대한 주민 3분의 2의 동의를 얻게 되는 경우 지자체의 도시계획위원회 심의를 거쳐 최종 확정합니다.

 

김영한 국토부 주택정책관은 “공공 직접시행 정비사업은 민간 정비사업 대비 더 나은 수익률을 보장해줄 뿐만 아니라 공공의 투명성, 공정성 등을 고려할 때 종전 방식보다 소유자들의 재산권 보장에도 유리한 방식”이라며 “사전 컨설팅을 통해 많은 주민들이 공공 직접시행 정비사업에 올바른 접근을 할 수 있도록 지원하고 조속히 사업지가 확정될 수 있도록 지자체, 유관기관과 총력을 다하겠다”고 말했습니다.

 

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안정호 기자 vividocu@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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