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SKT, 국내 첫 ‘MEC 웨비나(Web Seminar)’ 연다

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Friday, April 09, 2021, 11:04:16

오는 15일 온라인으로 웨비나 진행..실제 MEC 활용 사례 등 발표
선착순 300명 마감..“MEC 기반 클라우드 서비스 생태계 선도할 것”

인더뉴스 권지영 기자ㅣSK텔레콤(대표이사 박정호)이 5G MEC의 기업 활용 사례부터 미래 방향성까지 폭넓게 소개하는 ‘SKT Edge Now(에지 나우)’를 오는 15일 웨비나(Web Seminar) 방식으로 개최합니다. 상용화된 MEC를 주제로 한 세미나로는 국내 최초인데요. 

 

MEC(Mobile Edge Computing)는 통신 기지국 근거리에 서버 등 컴퓨팅 시스템을 구축해 데이터 전송거리를 단축해 초고속∙초저지연 서비스를 가능하게 하는 기술입니다. 

 

SKT는 작년 12월 아마존웹서비스(Amazon Web Service, 이하 AWS)와 함께 국내 최초로 5G 에지 클라우드(Edge Cloud) 서비스인 ‘SKT 5GX 에지(Edge)’를 선보인 이후, MEC 활용 사례를 지속적으로 발굴하며 MEC 생태계 확장을 선도하고 있습니다.

 

‘SKT 5GX 에지’는 5G MEC 인프라에 AWS의 ‘웨이브렝스(Wavelength)’를 적용한 서비스로 고객사들이 초저지연 모바일 애플리케이션을 구축할 수 있도록 돕는 역할을 합니다. Wavelength은 5G 초저지연 전송 애플리케이션을 제공하는 AWS의 에지 컴퓨팅 서비스입니다. 

 

‘SKT Edge Now’는 SKT의 클라우드 기반 MEC 상품들과 AWS의 서비스 상품, 다양한 MEC 적용 사례 및 향후 전망 등을 3개의 세션으로 소개하는데요. 

 

첫 세션에서는 SKT의 ‘퍼블릭 에지(Public Edge)‘와 ‘온사이트 에지(On-Site Edge)’, AWS의 ‘웨이브렝스(Wavelength)’ 등 평소 정확한 개념을 알기 힘든 MEC 상품들에   대한 상세 설명이 진행됩니다.

 

두번째 세션은 포스트 코로나 시대 5G MEC의 가치 등 MEC의 미래에 대한 전문가 패널 토의가 VR기반의 버츄얼 스튜디오를 활용해 진행될 예정입니다. 

 

마지막 세션에선 실제 MEC를 활용했던 파트너사들의 구체적인 경험담을 들어볼 수 있는데요. AR 글래스를 활용한 산업지원 솔루션 사례와 초저지연 기반 실시간 연극공연   사례 등을 통해 MEC 활용 가능성을 확인해볼 수 있습니다. 

 

‘SKT Edge Now’는 15일 오후 1시 30분부터 약 2시간 동안 온라인에서 실시간으로 진행되며, MEC 생태계 확대를 위해 무료로 진행됩니다. 참가 신청은 현재 PC와 모바일에서 가능하며, 선착순 300명 마감 예정입니다.

 

최일규 SKT Cloud Co장은 “이번 MEC 웨비나 ‘SKT Edge Now’를 통해 향후 5G Edge Cloud가 지닌 가치와 중요성을 공유하고 기업 고객들과 새로운 협력 기회를 적극적으로 만들겠다”며 ”SKT는 압도적인 MEC 기술을 바탕으로 네트워크, 보안, SaaS 등 클라우드와 관련된 종합적인 서비스를 제공함으로써 기업들의 혁신을 돕는 동반자가 될 것”이라고 말했습니다.

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권지영 기자 eileenkwon@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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