검색창 열기 인더뉴스 부·울·경

Stock 증권

[코스피 마감] 오미크론 쇼크에서 산타랠리 기대로…엿새째 상승에 3000선 탈환

URL복사

Wednesday, December 08, 2021, 16:12:13

0.34% 상승한 3001.80 기록
외국인 투자자는 6일 만에 순매도

 

인더뉴스 양귀남 기자ㅣ코스피가 6일 연속 상승하며 3000선을 회복했다. 지난달 말 오미크론 변이 바이러스 충격에 수직 낙하했던 지수가 V자 급반등에 성공한 모습이다. 전일 나스닥이 3% 급등하는 등 글로벌 위험자산 선호심리가 높아지자 이제 연말 산타랠리를 기대해 볼 수 있는 것 아니냐는 관측도 나오고 있다.

 

8일 코스피 지수는 전 거래일보다 0.34% 올라 3001.80에 거래를 마쳤다. 장 초반 상승폭을 키우며 1.5% 가까이 오르기도 했지만 외국인 투자자가 매도세로 돌아서면서 오름폭을 다소 축소했다.

 

이재윤 SK증권 연구원은 “전일에 이어 외국인의 반도체 수급 유입은 지속되고 있다”며 “전일 미국 증시가 급등한 것과 마찬가지로 오미크론 변이 바이러스가 우려했던 것만큼 심각한 충격을 주지 못할 것이라는 파우치 박사의 발언에 투자심리가 개선됐다”고 설명했다.

 

앤서니 파우치 국립알레르기·전염병연구소 소장은 7일(현지시간) AFP와의 인터뷰에서 “오미크론 변이의 중증도를 판단하기 위해서는 몇 주가 더 필요하다”며 “확실히 전염성은 델바 변이보다 강하고 재감염률 역시 높게 나타나고 있지만 중증으로 이어져 입원 비율은 상대적으로 낮다”고 말했다.

 

기관이 홀로 8014억 원 가량을 순매수하며 지수상승을 이끌었다. 개인은 6882억 원 가량을 순매도했고 외국인은 851억 원 가량을 순매도하며 6일 만에 매도세로 돌아섰다.

 

업종별로는 혼조세를 보였다. 음식료품이 1% 이상 내렸고 건설업, 섬유·의복, 통신업 등이 하락 마감했다. 의약품, 의료정밀 업종이 2% 이상 올랐고 전기가스업, 화학, 기계 등이 상승 마감했다.

 

시가총액 상위 10개사도 비슷한 흐름을 보였다. 삼성전자는 보합, 하이닉스는 1%대 하락을 기록하며 반도체주는 쉬어가는 모습이었다. LG화학이 5% 이상, 삼성바이오로직스는 4% 이상 올랐고 삼성 SDI, NAVER 등이 강세를 보였다.

 

이날 거래량은 4억 8152만 주, 거래대금은 10조 9568억 원 가량을 기록했다. 상한가 없이 340 종목이 상승했고 하한가 없이 496 종목이 하락했다. 보합에 머무른 종목은 96개였다.

 

한편, 코스닥은 0.94% 오른 1006.04를 기록했다.

English(中文·日本語) news is the result of applying Google Translate. <iN THE NEWS> is not responsible for the content of English(中文·日本語) news.

배너

양귀남 기자 Earman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


배너


배너