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롯데, 신성장 사업에 5년간 37조원 투자한다

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Tuesday, May 24, 2022, 17:05:24

유통·관광산업 시설 투자 확대 재개

 

인더뉴스 장승윤 기자ㅣ롯데가 국내 산업 생태계 활성화를 위해 본격 투자에 나섭니다. 

 

24일 롯데에 따르면 신성장 테마인 헬스 앤 웰니스, 모빌리티, 지속가능성 부문을 포함해 화학·식품·인프라 등 핵심 산업군에 5년간 총 37조원을 집중 투자할 계획입니다. 코로나19 이후 위축됐던 유통·관광 산업 역량 강화를 위한 시설 투자도 확대합니다.

 

헬스 앤 웰니스 부문에서 바이오 의약품 CDMO(위탁개발생산) 사업 진출을 준비 중인 롯데는 해외 공장 인수에 이어 1조원 규모의 국내 공장 신설을 추진합니다. 모빌리티 부문은 올해 실증 비행이 목표인 UAM(도심항공교통)과 전기차 충전 인프라 중심으로 투자합니다.

 

롯데는 유통·호텔 등 운영 점포와 연계 복합 충전스테이션 설치 등 충전 인프라 사업을 본격화함에 따라 시설 투자를 통해 연간 충전기 생산량을 1만대 이상 규모로 확대합니다. 롯데렌탈도 8조원 규모 전기차 24만대를 도입합니다.

 

화학 사업군은 지속가능성 부문에 대한 투자를 단계적으로 확대합니다. 먼저 롯데케미칼은 5년간 수소 및 전지소재 사업에 1조6000억원 이상을 씁니다. 국내 수소 인프라 구축을 목표로 국내외 전략적 파트너와 연내 합작사를 설립, 수소 충전소 및 발전 사업을 추진하며 배터리 전해액 등에 투자하고 있습니다. 

 

또 자원 선순환 트렌드에 발맞춰 리사이클과 바이오 플라스틱 사업 분야에서 2030년까지 1조원을 투자해 친환경 리사이클 제품 100만톤을 생산할 계획입니다. 화학 사업군은 7조8000억원을 써 고부가 스페셜티 사업과 범용 석화 사업 경쟁력 강화를 위한 설비 투자와 생산 증설에 나설 방침입니다. 

 

국내 스타트업 지원과 투자에도 공을 들입니다. 롯데벤처스는 2026년까지 국내 스타트업 투자를 3600억원 규모로 늘립니다. 롯데벤처스 엘캠프(스타트업 육성 및 투자 프로그램) 뿐만 아니라 푸드테크(미래식단), 헬스케어 등 전문 분야로도 투자 영역을 넓힙니다. 

 

유통 사업군은 8조1000억원을 투자합니다. 롯데백화점은 서울 상암동, 인천 송도 등에서 고용유발효과가 높은 대규모 복합몰 개발을 추진하고 본점·잠실점 등 핵심 지점 리뉴얼을 차례로 진행할 예정입니다. 롯데마트는 1조원을 투자해 제타플렉스, 맥스, 보틀벙커 등 특화 매장을 확대합니다.

 

롯데 관계자는 "호텔 사업군은 관광 인프라 핵심 시설인 호텔과 면세점 시설에 2조3000억원을 투자해 해외 관광객 유치에 나설 것"이라며 "식품 사업군도 와인과 위스키를 중심으로 성장하는 포트폴리오를 확대하고 대체육 등 미래 먹거리와 신제품 개발 등에 총 2조1000억원을 투자할 계획"이라고 말했습니다.

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장승윤 기자 weightman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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