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SK건설, 화성∙파주서 친환경 연료전지 발전소 본격 가동

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Thursday, September 03, 2020, 10:09:19

총 발전규모 27.9MW..미세먼지 없고 발전효율 높아

 

인더뉴스 이재형 기자ㅣSK건설이 미세먼지를 배출하지 않고 발전 효율은 높은 친환경 신재생 발전소를 국내에서 본격 가동합니다. 경기도 화성시와 파주시에 지은 시설들인데, 총 발전량은 27.9MW입니다.

 

SK건설은 고체산화물 연료전지(Solid Oxide Fuel Cell, SOFC) 발전소인 화성연료전지 발전소와 파주연료전지 발전소의 상업 운전을 시작한다고 3일 알렸습니다.

 

화성연료전지 발전소는 SK건설과 한국남동발전이 경기 화성 장안면 노진리에 7017㎡ 규모로 지었습니다. 지난해 7월 착공해 올해 5월 공사를 마치고 이제 상업 운전에 하게되는데요. 2040년 4월까지 약 20년간 운영할 계획입니다.

 

이 발전소의 발전 규모는 19.8MW로 아시아 최대이며, 발전 효율은 56%로 연료전지 중 가장 높습니다. 연간 16만5000MWh의 전력을 생산해 인근 지역 약 4만3000가구에 공급할 계획이며 이용률은 95%입니다.

 

발전소 개발에 사업비 총 1414억원이 투입됐으며 이 중 SK건설(15.2%)과 남동발전(84.8%)의 투자금은 275억원입니다. 나머지는 SK건설의 기술력과 사업성을 기반으로 프로젝트 파이낸싱을 받았는데, 이는 국내 SOFC 개발에서 처음 있는 일이라고 합니다.

 

 

SK건설이 동서발전, 서울도시가스와 함께 만든 파주연료전지 발전소도 최근 상업운전을 시작했습니다. 경기 파주시 월롱면 도내리 일원에 2000㎡ 규모로 조성된 발전소인데, 2040년까지 운영되며 발전 규모는 8.1MW입니다.

 

총 사업비는 약 538억원이며 SK건설 5%, 동서발전 89%, 서울도시가스 6%로 3개사가 전액 지분 출자했습니다. 파주연료전지 발전소는 전력과 함께 도시가스도 공급하는 게 특징입니다. 도시가스가 공급되지 않는 일부 농촌 지역도 이용할 수 있게 했습니다.

 

한편 SK건설은 이 같은 발전소 개발에 앞서 지난 1월 세계적인 연료전지 제작업체인 미국 블룸에너지(Bloom Energy)와 국내 SOFC 생산을 위한 합작법인인 ‘블룸 SK 퓨얼셀’을 설립했습니다,

 

이후 경북 구미에 SOFC 설비 공장을 짓고 지난 7월부터 연료전지 생산에 돌입했는데요. 생산규모는 연산 50MW로 시작해, 향후 400MW까지 점진적으로 확대할 계획입니다.

 

안재현 SK건설 사장은 “블룸에너지와 긴밀한 협력을 통해 ‘원 팀 오퍼레이션(One Team Operation)’ 체계를 더욱 강화하고 글로벌 시장에서 지속적인 사업기회를 발굴하겠다”며 “국내 중소 부품업체의 해외 수출 판로도 크게 확장하는 동반성장 롤모델을 만들 것”이라고 말했습니다.

 

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이재형 기자 silentrock@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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