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포스코케미칼, 연간 최대 실적…영업이익 109% 증가

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Wednesday, January 26, 2022, 12:01:03

2021년 매출액 1조 9895억원, 영업이익 1217억원
에너지소재사업 매출 전년 대비 59.7% 증가하며 성장 견인

 

인더뉴스 김용운 기자ㅣ포스코케미칼이 코로나19 상황속에서도 지난해 연간 최대 경영실적을 달성했습니다.

 

포스코케미칼은 연결 기준으로 지난해 매출액 1조9895억원, 영업이익 1217억원을 기록해 전년 대비 매출은 27.0%, 영업이익은 101.9% 증가했다고 26일 발표했습니다. 

 

이는 연간 기준으로 창사 이래 최대 매출이며 영업이익은 두 배 이상 늘어난 실적입니다. 

 

에너지소재사업에서는 전기차 배터리용 하이니켈 양극재의 판매량이 증가하고 리튬, 니켈 등 원료가격 상승이 판매가에 반영되며 매출액이 전년보다 59.7% 늘어난 8518억원을 기록했습니다.

 

이는 포스코ESM을 합병하며 양극재 사업에 처음 진출한 2019년의 양∙음극재 매출액 2190억원과 비교해 2년만에 289% 증가한 수치입니다. 전체 사업에서 차지하는 매출 비중 역시 같은 기간 14.8%에서 42.8%로 증가하며 성장을 견인했습니다

 

라임케미칼사업에서는 조강생산량 증가에 따른 라임(생석회) 제품 판매확대와 유가 상승으로 콜타르, 조경유 등의 제품 판매 단가가 오르며 전년 대비 16.4% 증가한 6753억원의 매출을 거뒀습니다. 내화물사업 매출은 전년 대비 소폭 증가한 4625억원입니다.

 

전극봉과 인조흑연 음극재의 원료인 침상코크스를 생산하는 자회사 피엠씨텍은 전기로 가동률 상승에 따른 제품 수요 증가로 전년 대비 53.7% 증가한 1724억원의 매출액과 22.1%의 영업이익률을 기록했습니다.

 

양·음극재 사업 투자 확대에도 성공적인 유상증자를 통해 부채비율은 60.9%로 전년 104.0% 대비 43.1%p 감소했고 현금성 자산은 1조3512억원으로 증가하는 등 재무건전성을 강화했습니다.

 

포스코케미칼은 향후 전기차시장이 성장하며 배터리소재 수요가 확대되는 가운데 특히 주행거리 증대를 위한 차세대 소재의 수요 역시 높게 유지될 것으로 전망하고 있습니다. 

 

이를 위해 오는 5월 세계 최대 규모인 연산 9만톤의 양극재 광양공장을 종합 준공하고, 북미, 중국, 포항에 양극재 공장을 신∙증설하는 등 글로벌 양산거점 구축에 나섭니다. 음극재는 전기차용 저팽창 천연흑연 생산 설비를 증설하고 인조흑연 음극재도 본격 생산을 시작해 제품 포트폴리오를 다각화합니다. 올해 양극재는 연산 10만 5000톤, 음극재는 8만 4000톤의 생산능력을 확보할 계획입니다.

 

또한 지난해 국내 배터리 소재 최초로 음극재 생산공정에 대해 환경부 인증을 획득한 데 이어 양극재에 대해서도 인증을 추진하고 배터리소재 원료 공급망의 투명성과 안정성을 확보하는 등 ESG 경영도 더욱 강화한다는 방침입니다. 

 

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김용운 기자 lucky@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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