인더뉴스 양귀남 기자ㅣ예스티는 반도체 제조의 핵심 공정에 적용되는 고압 어닐링 기술 관련 특허를 출원했다고 2일 밝혔다.
이번에 출원한 특허 기술은 고압 어닐링 장비의 핵심 기술인 압력 챔버 등에 관한 것으로 중수소 리액터 장치를 최초로 국산화한 것을 골자로 한다고 회사측은 설명했다. 어닐링 공정은 반도체 Si(실리콘옥사이드) 표면의 결함을 고압의 수소·중수소로 치환하는 과정을 통해 반도체의 신뢰성(Reliability)을 향상시키고, 구동 전류 및 집적회로 성능을 높일 수 있다고 전했다.
예스티의 고압 어닐링 장비는 800℃의 온도 내에서 30기압의 고압을 가해 수소농도 100%를 유지하면서 어닐링 공정을 진행할 수 있다. 기존 어닐링 장비는 600~1100℃의 고온이 필요하고 수소농도도 5% 미만에 불과해 반도체 계면 결함 개선 효율이 떨어진다는 단점이 있다.
최근 글로벌 반도체 기업들이 정보처리 속도 향상과 비용 절감을 위해 10nm 이하의 초미세 공정을 확대하고 있다고 회사측은 전했다. 고압 어닐링 공정을 통한 ‘반도체 생산 수율 향상’이 핵심 경쟁력으로 부각되면서 고압 어닐링 장비 수요가 큰 폭으로 증가하고 있다고 덧붙였다.
예스티 관계자는 “예스티가 보유한 반도체 열처리 기술과 수소 제어 기술을 바탕으로 시장성과 수익성이 뛰어난 반도체 어닐링 장비 시장에 신규 진출해 미래 성장 동력을 확보할 예정”이라며 “이미 지난해 5월부터 고압 어닐링 장비 개발에 착수해 이번에 관련 특허를 출원했다”고 말했다.
