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삼성SDI, 신임 대표이사에 최윤호 사장 내정

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Tuesday, December 07, 2021, 14:12:18

경영지원실장 등 거쳐 글로벌 성장 기여
ESG 경영 강화 및 노하우 전수 담당

 

인더뉴스 이수민 기자ㅣ삼성SDI[006400]는 신임 대표이사로 삼성전자[005930] 경영지원실장 최윤호 사장을 내정했다고 7일 밝혔습니다.

 

최 사장은 지난해 부사장에서 사장으로 승진했습니다. 삼성전자 구주총괄 경영지원팀장과 사업지원TF 담당임원, 전사 경영지원실장을 거치며 삼성전자의 글로벌 성장에 기여했습니다.

 

삼성SDI는 "재무 전문가이자 글로벌 사업운영 역량을 갖춘 분을 신임 대표이사로 내정함에 따라 삼성SDI의 글로벌 사업 경쟁력이 강화될 수 있을 것"이라고 기대했습니다.

 

최 사장은 향후 삼성SDI 주주총회를 통해 대표이사로 공식 선임될 예정입니다.

 

기존 대표이사였던 전영현 사장은 대표이사직에서는 물러나지만 삼성SDI 배터리 사업을 성장시켜 역대 최대실적을 달성한 성과를 인정받아 부회장으로 승진했습니다. 전 부회장은 삼성SDI 이사회 의장으로서 ESG 경영 강화 및 경영 노하우 전수 등 후진 양성을 담당하게 됩니다.

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이수민 기자 itnno1@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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