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포스코케미칼, 2분기 영업익 552억…배터리소재 투자 성과

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Thursday, July 21, 2022, 15:07:03

매출 8032억·영업이익 552억..전년비 20.9%·116.2%↑
배터리소재서 매출 24.5% 증가..전체 실적 이끌어

 

인더뉴스 홍승표 기자ㅣ포스코케미칼[003670]이 배터리소재사업에 투자한 성과에 힘입어 자사 역대 최대 실적을 달성했습니다.

 

21일 포스코케미칼이 발표한 올해 2분기 경영실적에 따르면, 연결 기준으로 매출 8032억원, 영업이익 552억원을 기록하며 각각 전분기보다 20.9%, 116.2% 증가했습니다.

 

매출의 경우 8분기 연속 역대 최대치를 경신했으며, 영업이익 또한 양극재 사업 수익성 강화 전략이 주효하며 전 분기 대비 두배 이상 늘어나며 역대 최대 규모를 달성했습니다.

 

사업 부문별 실적을 볼 경우, 배터리소재사업은 매출액이 전 분기 대비 24.5% 증가한 3951억원을 기록했습니다. 첫번째 글로벌 양극재 투자로 지난해 단행했던 중국법인 절강포화가 호실적을 이끌었으며 전략적 조달 체제를 구축 중인 리튬·니켈 등의 원료가격 상승이 판가에 반영된 것이 매출 상승을 이끌었습니다.

 

양극재 사업 매출은 3486억원을 기록했습니다. 포스코ESM을 합병해 사업에 진출한 지난 2019년 2분기 319억에서 3년 간 1017%가 증가한 숫자입니다. 전기차용 하이니켈 제품 비중이 91%에 달하고, 국내외에 증설 중인 양산라인의 가동률과 수율이 높아진 것이 매출에 반영됐습니다.

 

음극재 사업은 전기차용 반도체 공급부족 영향에도 불구하고 ESS와 IT 배터리용 제품비중이 늘며 465억원의 매출을 기록했습니다.

 

라임케미칼 사업은 전 분기 대비 3.2% 줄어든 1916억원의 매출을 올렸습니다. 유가 영향으로 콜타르 등의 제품 판매가가 상승하며 매출과 이익이 증가했으나 고로 개수 공사에 따른 판매량 감소가 매출 감소로 이어졌습니다. 내화물 사업은 고객사의 제조설비 공사일정 변경에 따른 판매량 감소로 전 분기 대비 2.1% 감소한 1338억원의 매출액을 기록했습니다.

 

아울러, 전기로용 전극봉 원료인 침상코크스를 생산하는 자회사 피엠씨텍은 중국 전기로 가동률과 판매 단가 상승으로 전 분기 대비 3.6% 증가한 601억원의 매출과 영업이익률 27.7%를 기록했습니다.

 

포스코케미칼 관계자는 "올해 하반기에도 글로벌 전기차 시장이 성장하는 가운데 거시경제 불확실성과 원료 및 공급망 이슈도 지속될 것으로 전망된다"며 "수요 적기대응을 위한 양산능력 투자, 고객과 시장 다변화에 맞춘 포트폴리오 다변화, 신규 고객을 대상으로 한 수주 확대, 원료 공급망 고도화 등을 통한 성장 가속화와 수익성 강화에 주력할 방침"이라고 밝혔습니다.

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홍승표 기자 softman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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