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네이버, AI 애니메이팅 자동화 스타트업 ‘플라스크’에 투자

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Wednesday, September 09, 2020, 10:09:05

영상 속 인물 움직임을 3D 캐릭터 모션으로 자동 구현..콘텐츠 제작 도구로 높은 활용성 기대

 

인더뉴스 권지영 기자ㅣ네이버의 기업형 액셀러레이터 D2SFD2 스타트업 팩토리가 영상 속 인물의 움직임을 3D 애니메이션으로 구현하는 기술 스타트업 ‘플라스크(Plask)’에 신규 투자했습니다.

 

이번 투자는 네이버 D2SF가 매 학기 진행 중인 캠퍼스 기술창업 공모전으로 발굴 및 인큐베이팅해 투자까지 이어진 5번째 사례입니다.

 

9일 플라스크(대표 이준호)에 따르면 딥러닝 및 포즈 추출 기술을 활용해 영상 속 인물의 모습을 3D 캐릭터 모션으로 구현하는 솔루션을 개발 중입니다.

 

특히 게임, 애니메이션 등 캐릭터 콘텐츠 제작에 있어 인물의 모션을 캡쳐, 후처리해 3D 모델에 적용하는 애니메이팅 단계는 고가의 장비와 상당한 시간과 비용이 소요됩니다.

 

플라스크가 개발 중인 솔루션은 이러한 애니메이팅 과정을 자동화해 콘텐츠 제작 생산성을 크게 높일 수 있습니다. 올해 말 베타서비스 출시 예정이며, 이미 모바일 게임사 엔퓨전과의 협업으로 신작 게임 개발에 시범 적용될 만큼 콘텐츠 완성도 또한 뛰어납니다.​

 

포항공대 학생 창업팀으로 출발한 플라스크는 법인 설립 전인 지난해 12월, 네이버 D2SF의 캠퍼스 기술창업 공모전에 선정됐습니다.

 

캠퍼스 기술창업 공모전은 네이버 D2SF가 초기 기술 스타트업 성장을 위해 대학(원)생 기술창업팀을 지원하는 프로그램인데요. 최종 선정된 팀은 약 6개월의 인큐베이팅 기간 동안 네이버 임직원 멘토링, 기술창업가 멘토링, 기술개발 자금, 클라우드 인프라, 전용 업무공간 등을 지원받습니다.

 

지난 8차례의 공모전에서 44팀이 선정됐고, 이 가운데 15팀이 법인 설립과 투자 유치에 성공했습니다. 특히 플라스크, 모빌테크, 포자랩스, 제제듀, 그리고 네이버 웹툰에 인수된 비닷두 이상 5팀은 네이버 D2SF가 직접 투자까지 이어갔습니다.

 

이준호 플라스크 대표는 “네이버 D2SF의 캠퍼스 기술창업 공모전을 거치며, 아이디어 수준에 머물렀던 AI 모션캡쳐 기술을 시장 니즈에 부합하는 수준으로 끌어올릴 수 있었다”며 “이번 투자를 발판 삼아 연내 출시 목표인 제품 완성도를 한층 더 높일 것이며, 네이버와의 시너지 또한 기대한다”고 말했습니다.

 

양상환 네이버 D2SF 리더는 “6개월의 인큐베이팅 기간 동안 플라스크는 기술 개발 및 시장 학습에 있어 빠른 성장과 실행력을 보여준 팀”이라며 “앞으로도 초기 단계의 대학(원)생 창업팀과 적극 교류하며, 이들의 잠재력을 이끌어낼 수 있도록 적극 지원 및 투자하겠다”고 말했습니다.

 

현재 네이버 D2SF는 9번째 캠퍼스 기술창업 공모전 참가팀을 모집 중입니다. 기술창업을 고민하거나 준비하는 학생 창업팀이라면 11월 6일까지 네이버 D2SF 홈페이지를 통해 참가 신청할 수 있습니다.

 

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권지영 기자 eileenkwon@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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