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금호석화, 2026년 연매출 12조 목표…지속성장 체계 구축

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Friday, March 11, 2022, 10:03:35

‘지속가능경영을 위한 중장기 성장 전략’ 발표
핵심 전략으로 ‘ESG 선도·핵심사업 육성·미래 신성장 동력 확보’

 

인더뉴스 홍승표 기자ㅣ금호석유화학[011780]이 오는 2026년까지 연 매출 12조원을 달성한다는 목표를 잡았습니다. 목표는 ESG를 선도할 수 있는 사업 시스템을 구축하는 등 지속가능경영을 통해 성장할 수 있는 토대를 바탕으로 달성할 계획입니다.

 

금호석유화학은 지난 8일 ‘지속가능경영을 위한 중장기 성장 전략’을 발표하며 미래 사업 전략과 주주 정책에 대한 구체적인 청사진을 제시했다고 11일 밝혔습니다.

 

이날 금호석유화학은 중장기 성장을 위한 핵심 키워드로 ‘지속 성장 기업으로의 전환’을 발표했으며 오는 2026년 연 매출 12조원을 달성한다는 전사적 목표도 내놓았습니다. 목표 달성을 위한 핵심 전략으로는 ▲ESG 선도 사업 체계 구축 ▲핵심(Core) 사업 집중 육성 ▲미래 신성장 동력 확보로 압축했습니다.

 

‘ESG 선도 사업 체계 구축’은 탄소중립 성장 기반 마련, 친환경 사업 비중 증대, 내부시스템 고도화를 토대로 실행해 나갈 계획입니다.

 

탄소중립 성장 기반의 경우 신재생에너지로의 전환, 발전 사업 에너지 효율화 등을 통해 마련할 예정입니다. 이를 통해 2030년 기준 BAU(배출전망치) 대비 온실가스 배출량을 29% 감축하고 2050년 탄소 중립 성장을 위한 실행 전략을 구체화한다는 목표입니다.

 

친환경 사업의 경우 비중을 지난 2018년 기준 7%에서 오는 2026년까지 16%, 나아가 2030년까지 30%로 확대할 계획입니다. 이를 위해 친환경 자동차용 타이어 합성고무와 바이오 원료를 사용한 합성고무의 비중 확대 및 생분해가 가능한 NB라텍스 개발 등 저탄소 제품 비중을 늘릴 예정입니다.

 

 

내부시스템 고도화의 경우 ESG 전략 실행이 차질 없이 이어갈 수 있도록 하기 위한 목적입니다. 이사회 내 ESG 위원회의 활동을 한 층 강화하고 ESG 관점의 내부 컴플라이언스 시스템을 구축해 전략 실행에 속도를 붙일 방침입니다.

 

두 번째 핵심 전략인 ‘핵심사업 집중 육성’의 경우 합성고무의 선도적 지위 수성, 에폭시 글로벌 Top5 진입, 정밀화학 세계시장 점유율 2배 확대 등을 세부 목표로 잡았습니다. 이를 위해 합성수지 및 페놀유도체 등 Base 사업에서도 수익성을 극대화하기 위한 노력을 이어갈 방침입니다.

 

세 번째 전략인 ‘미래 신성장 동력 확보’의 경우 친환경 자동차, 바이오 및 친환경 소재, 고부가 스페셜티 영역 등 신성장 플랫폼을 확보해 목표 달성의 토대를 마련한다는 계획입니다. 아울러, CNT 및 바이오 소재 제품 등 자체 성장 사업 육성과 CVC(기업주도형 벤처캐피탈) 설립도 추진할 예정입니다.

 

이 외에도, 금호석유화학은 주주친화정책도 강화할 예정이라는 입장을 밝히기도 했습니다. 금호석유화학 관계자는 “지난해 주주환원 정책을 발표한 데 이어 앞으로 사업 체질 개선에 기반한 수익과 사업 가치 개선분을 주주들과 공유하기 위한 주주 정책을 실천할 계획”이라고 밝혔습니다. 

 

한편, 금호석유화학은 최근 3년 간 재무 실적에서 성장세를 보이고 있는 상황입니다. 지난 해 매출액은 전년 대비 75.9% 증가한 8조4618억원, 영업이익은 전년 대비 224.3% 증가한 2조4068억원을 달성하며 사상 최대 실적을 기록했습니다.

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홍승표 기자 softman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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